[发明专利]使用倍频干涉光刻的线栅偏振器制造方法

权利要求书

1.一种线栅偏振器制造方法，包括：

将光刻胶层沉积在涂覆铝的显示器衬底之上；

使用Markle-Dyson系统通过双重显影将所述光刻胶层图案化以形成光刻胶图案；以及

将所述光刻胶图案转移到所述涂覆铝的显示器衬底中。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述光刻胶图案包括高光曝光强度部分、中光曝光强度部分和低光曝光强度部分，并且其中所述双重显影还包括：

使用第一显影溶液去除所述高光曝光强度部分；以及

使用第二显影溶液去除所述低光曝光强度部分。

3.如权利要求1所述的方法，其中将所述光刻胶图案转移到所述涂覆铝的显示器衬底中包括蚀刻所述涂覆铝的显示器衬底。

4.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括：

在将所述光刻胶图案转移到所述涂覆铝的显示器衬底中之后，去除任何剩余的光刻胶层。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述光刻胶层包括酚醛树脂和重氮萘醌。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述光刻胶层包括正性作用酚醛树脂和重氮萘醌光刻胶与负性作用聚乙烯醇缩醛聚合物水溶性光活性化合物的混合物。

7.如权利要求1所述的方法，其中所述光刻胶层包括与具有可由负性光刻胶显影剂显影的光活性化合物添加剂的负性作用光刻胶材料共混的正性光刻胶材料。

8.如权利要求1所述的方法，其中所述光刻胶图案由具有单一间距的线栅组成。

9.如权利要求9所述的方法，其中所述单一间距小于或等于约200纳米。

10.一种线栅偏振器制造方法，包括：

将底部抗反射涂覆层沉积在涂覆铝的显示器衬底之上；

将光刻胶层沉积在所述涂覆铝的显示器衬底之上；

使用Markle-Dyson系统通过双重显影将所述光刻胶层图案化以形成光刻胶图案；

将所述光刻胶图案转移到所述涂覆铝的显示器衬底中；以及

将任何剩余的光刻胶从所述涂覆铝的显示器衬底去除。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述光刻胶图案包括高光曝光强度部分、中光曝光强度部分和低光曝光强度部分，并且其中所述双重显影还包括：

使用第一显影溶液去除所述高光曝光强度部分；以及

使用第二显影溶液去除所述低光曝光强度部分。

12.如权利要求10所述的方法，其中所述光刻胶图案由具有小于或等于约200纳米的单一间距的线栅组成。

13.一种线栅偏振器制造方法，包括：

将光刻胶层沉积在涂覆铝的显示器衬底之上；

使用Markle-Dyson系统通过双重显影将所述光刻胶层图案化以形成光刻胶图案，其中所述光刻胶图案包括高光曝光强度部分、中光曝光强度部分和低光曝光强度部分，并且其中所述双重显影还包括：

使用第一显影溶液去除所述高光曝光强度部分；以及

使用第二显影溶液去除所述低光曝光强度部分；

将所述光刻胶图案蚀刻到所述涂覆铝的显示器衬底中；以及

将任何剩余的光刻胶从所述涂覆铝的显示器衬底去除。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述Markle-Dyson系统包括主镜、耦接到所述主镜的正透镜以及耦接到所述正透镜的掩模版。

15.如权利要求13所述的方法，其中蚀刻的所述光刻胶图案包括具有小于或等于约100纳米的单一不变间距的细铝线栅。