[发明专利]制造经高度调制的光学衍射光栅的方法有效
| 申请号： | 201880038492.X | 申请日： | 2018-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN111033324B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | I·瓦蒂亚宁;J·拉霍迈基;M·埃尔德马尼斯 | 申请（专利权）人： | 迪斯帕列斯有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B6/00;G02B26/08;G02B27/09;C23C16/01;C23C16/04;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈斌;蔡悦 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制造 高度 调制 光学 衍射 光栅 方法 | ||
1.一种制造经高度调制的光学衍射光栅的方法，包括：
-提供基板，
-在所述基板上制造第一材料的多个临时元件，所述临时元件被间隙分开并且被布置为包括具有不同元件高度的至少两个周期的周期性结构，
-在所述临时元件上沉积第二材料的涂层，使得所述涂层填充所述间隙并覆盖所述临时元件，所述涂层是共形层，
-去除一均匀的第二材料层，以便暴露所述临时元件，
-去除所述第一材料，以便在所述基板上形成所述第二材料的经高度调制的图案作为所述光学衍射光栅。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述临时元件是用于形成光学衍射线型光栅的线元件。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述临时元件被布置为包括具有不同元件宽度的至少两个周期的周期性结构，以便形成第二材料的经高度和填充因子调制的图案作为所述光学衍射光栅。
4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述涂层在去除其均匀层的步骤之前在每个临时元件的顶部上具有恒定的厚度。
5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述均匀的第二材料层的所述去除包括蚀刻，所述蚀刻为干法或湿法蚀刻。
6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第一材料的所述去除包括蚀刻，所述蚀刻为干法或湿法蚀刻。
7.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，包括在制造所述临时元件的步骤之后在所述基板上沉积蚀刻停止层，并且可任选地在去除所述第一材料之后去除所述蚀刻停止层。
8.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述涂层使用原子层沉积ALD、化学气相沉积CVD或物理气相沉积PVD或其变体来沉积。
9.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第二材料是无机透明材料。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述无机透明材料为氧化物或氮化物化合物。
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，氧化物或氮化物化合物为TiO2、Si3N4或HfO2。
12.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第二材料的折射率为1.7或更高。
13.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第二材料的折射率为2.0。
14.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述第二材料的折射率为2.2或更高。
15.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述基板是能够用作光导的平面的光学透明基板。
16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述基板是玻璃基板或聚合物基板。
17.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第二材料包括具有比所述基板材料的折射率高的折射率的光学透明材料。
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