[发明专利]光学频率梳偏移频率的量子干涉检测

权利要求书

1.一种用于确定频率梳的偏移频率的方法，包括：

生成具有在时域中有规律地重复并且在频域中呈现频率梳的波形的光束，其中，所述光束具有光学带宽，所述光学带宽包括以第一频率传播的光和以第二频率传播的光，其中，所述第一频率小于所述第二频率，并且所述第二频率与所述第一频率之比为3∶2；

将所述光束指向材料上的入射点，其中，所述材料具有带隙并且所述带隙不大于所述第一频率的三倍；以及

检测由所述光束引起的所述材料中的光电流的振荡。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光束的波形在时域中由一系列光脉冲限定。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括：使用锁模激光器生成第一光束。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光束的重复率在10兆赫兹至10吉赫兹的范围内。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，将所述材料进一步限定为半导体或绝缘体之一。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述材料具有大于所述第一频率的两倍但小于所述第一频率的三倍的带隙。

7.根据权利要求1所述的方法，还包括：通过测量光电流的振荡的频率来检测所述光电流的振荡。

8.根据权利要求7所述的方法，还包括：使用在所述材料的表面上设置的电极来检测所述光电流的振荡。

9.根据权利要求1所述的方法，还包括：检测横向于光的传播方向流过所述材料的光电流的振荡。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，检测所述光电流的振荡还进行以下操作：布置所述材料，使得所述光束不沿所述材料的对称轴传播。

11.根据权利要求10所述的方法，还包括：检测平行于光的传播方向流过所述材料的光电流的振荡。

12.根据权利要求1所述的方法，还包括：在所述光束入射到所述材料上之前，放大所述光束中所述第一频率的光和所述第二频率的光中的至少之一。

13.根据权利要求1所述的方法，还包括：在所述光束入射到所述材料上之前，从所述光束中滤除所述第一频率的光和所述第二频率的光中的至少之一。

14.一种用于确定频率梳的偏移频率的方法，包括：

生成具有在时域中有规律地重复并且在频域中呈现频率梳的波形的光束，其中，所述光束具有光学带宽，所述光学带宽包括以第一频率传播的光和以第二频率传播的光，使得所述第一频率小于所述第二频率，并且所述第二频率与所述第一频率之比为n∶m，其中，n＝m+1，m为大于1的整数，并且n为正整数；

将所述光束指向材料上的入射点，其中，所述材料具有带隙并且所述带隙不大于所述第一频率的n倍；以及

检测由所述光束引起的所述材料中的光电流的振荡。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述光束的波形在时域中由一系列光脉冲限定。

16.根据权利要求14所述的方法，还包括：使用锁模激光器生成第一光束。

17.根据权利要求14所述的方法，其中，所述光束的重复率在10兆赫兹至10吉赫兹的范围内。

18.根据权利要求14所述的方法，其中，将所述材料进一步限定为半导体或绝缘体之一。

19.根据权利要求14所述的方法，其中，所述材料具有大于所述第一频率的n倍但小于所述第一频率的m倍的带隙。