[发明专利]用于放射治疗处置的处置计划生成有效
申请号: | 201880037735.8 | 申请日: | 2018-06-07 |
公开(公告)号: | CN110709136B | 公开(公告)日: | 2022-05-31 |
发明(设计)人: | A·A·伊索拉;C·诺伊基兴 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | G16H20/10 | 分类号: | G16H20/10;A61N5/10 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 孟杰雄 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 放射 治疗 处置 计划 生成 | ||
1.一种用于规划对患者身体的区域中的目标结构的放射治疗处置的系统,其中,被递送到所述区域的辐射包括多个辐射贡献,所述多个辐射贡献是能够基于处置计划来个体地控制的,并且其中,所述系统包括规划单元,所述规划单元被配置为:
-获得根据参数的值生成的第一处置计划,所述参数的值量化由辐射分量提供的辐射量,并且引起所述患者身体的所述区域中的第一剂量分布,
-获得改变根据所述第一剂量分布被递送到所述区域的至少一个体积元素的辐射剂量的指令,并且
-针对所述辐射分量中的至少一些,基于所述指令并且基于所述辐射分量对被递送到所述至少一个体积元素的所述辐射剂量的所述贡献来直接计算量化由所述辐射分量提供的所述辐射量的所述参数值的变化,
-基于量化由所述辐射分量提供的所述辐射量的所述参数值的所确定的变化来计算经更新的参数值,
-基于所述经更新的参数值来确定第二处置计划,
其中,量化由所述辐射分量提供的所述辐射量的所述变化的所述参数值被限制到上阈值和/或下阈值,并且其中,所述规划单元被配置为通过以下来计算所述经更新的参数值:将所确定的变化迭代地添加到所述参数值以计算所述经更新的参数值,直到所述经更新的参数值达到所述上阈值或所述下阈值或者直到由基于所述经更新的参数值生成的处置计划产生的剂量分布包括所述至少一个体积元素的变化剂量。
2.根据权利要求1所述的系统,其中,基于局部性参数并且基于所述贡献本身来调整所述辐射分量对被递送到所述至少一个体积元素的所述辐射剂量的所述贡献,以便确定量化由所述辐射分量提供的所述辐射量的所述参数值的所述变化。
3.根据权利要求1所述的系统,其中,所述辐射分量中的每个辐射分量对应于在停留时间期间由所述患者身体内的多个辐射源中的一个辐射源发射的辐射,并且其中,量化由一个辐射源提供的辐射量的所述参数对应于相关联的停留时间。
4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述辐射分量中的每个辐射分量对应于由所述患者身体外部的辐射源生成的辐射射束的元素,并且其中,量化由辐射射束的一个元素提供的辐射量的所述参数对应于相关联的通量。
5.根据权利要求1所述的系统,其中,所述规划单元被配置为基于量化所述辐射分量对所述患者身体的所述区域的个体体积元素的贡献的影响矩阵来确定量化由所述辐射分量提供的所述辐射量的所述参数值的所述变化。
6.根据权利要求5所述的系统,其中,所述规划单元被配置为根据以下公式来确定量化由第i个辐射分量提供的所述辐射量的所述参数值的所述变化:
其中,Δτi指代量化由所述第i个辐射分量提供的所述辐射量的所述参数值的所述变化,Δdj指代被递送到体积元素j的所述辐射剂量的变化量,[B·(Md ·B)-1]ij指代矩阵B·(Md·B)-1的i,j分量,Md指代矩阵,所述矩阵包括与至少一个体积元素有关的所述影响矩阵的行,并且B指代基于所述影响矩阵和局部性参数α来生成以实现对所述辐射分量对被递送到所述至少一个体积元素的所述辐射剂量的所述贡献的调整的对角矩阵。
7.根据权利要求6所述的系统,其中,Δτi指代第i个辐射源的停留时间的变化或辐射射束的第i个元素的通量的变化。
8.根据权利要求6所述的系统,其中,所述矩阵B的每个对角元素Bjj是根据以下公式计算的:
其中,Pij指代矩阵P的分量,所述矩阵P是通过使用每行的最大分量对相应行的分量进行归一化从所述矩阵Md获得的,并且局部性参数α具有等于或大于零的整数值,
其中,对于α=0,所有辐射分量都被视为同等重要,以实现期望剂量分布修改,并且,对于α0,由对由违反体素吸收的剂量具有较小贡献的辐射分量所提供的辐射量被较小程度地修改。
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