[发明专利]压力测定用材料在审

专利信息
申请号: 201880036865.X 申请日: 2018-06-06
公开(公告)号: CN110741237A 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 加藤进也;川上浩 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G01L5/00 分类号: G01L5/00
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 曹阳
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 熔点 供电子性 染料前体 微胶囊 极性有机化合物 压力测定用材料 溶剂
【说明书】:

本发明提供一种压力测定用材料,其含有:微胶囊A,内含供电子性染料前体;及微胶囊B,内含熔点或流点为30℃以下的溶剂及熔点超过30℃的极性有机化合物,并且不内含供电子性染料前体。

技术领域

本发明涉及一种压力测定用材料。

背景技术

压力测定用材料(即,用于压力测定中的材料)使用于液晶玻璃的贴合工序、对印刷基板的焊料印刷、辊间压力调整等用途。作为用于压力测定中的材料的例子,例如有以由Fujifilm Corporation提供的Prescale(商品名称;注册商标)为代表的压力测定薄膜。

近年来,对用以测定微小压力的压力测定用材料进行研究。

例如,在日本专利公开2009-019949号公报中提出有一种压力测定用材料,其在0.05MPa下加压前后的发色浓度差ΔD为0.02以上,以获得在微小压力下可视觉辨认或可读取的浓度。

并且,在日本专利公开2009-063512号公报中公开有一种压力测定用材料,其作为在低压下可以获得良好的发色的双片型压力测定用材料,着眼于微胶囊中的数均壁厚σ和显色剂层的表面粗糙度Ra,对摩擦的发色得到抑制。

发明内容

发明要解决的技术课题

如从上述日本专利公开2009-019949号公报及日本专利公开2009-063512号公报可见,对用以测定微小压力的压力测定用材料正在进行研究。

然而,近年来,由产品的高功能化及高精细化发展的背景,更精密地掌握被施加了微小压力的区域的必要性在增加。

例如,在液晶面板的领域中,作为贴合方法,有时对应于大面积化而采用真空贴合方式,该情况下,需要精密地掌握被施加了小于0.1MPa(即,大气压)的压力的区域。

并且,在智能手机的领域中,随着模块的减薄化,从提高贴合时的产率的观点考虑,需要0.05MPa以下的微小压力下的贴合。因此,在智能手机的领域中,需要精密地掌握被施加了0.05MPa以下的微小压力的区域。

在上述情况下,上市的压力测定薄膜的可测定压力范围,即,通过加压而获得发色的压力范围成为0.05MPa以上的范围。因此,在对上市的压力测定薄膜施加了小于0.05MPa的弱压力的情况下,检测中所需要的发色不充分,或者即使获得发色也不易获得为了判断压力差而需要的浓度级。

在现有技术中提出一种材料,该材料例如如日本专利公开2009-019949号公报中所记载的压力测定用材料,以0.05MPa加压前后的发色浓度差ΔD得到优化。然而,存在如下问题:若进行高灵敏度化,以便通过施加小于0.05MPa的微小压力也可以获得可视觉辨认或可读取的浓度及浓度级,则容易产生由处理时的摩擦等引起的发色。

从而,期待建立如下技术:在0.05MPa以下的压力范围内也良好地发色,并且可以获得对应于微小压力差的发色(即,浓度级),并且能够抑制由摩擦等引起的不必要的发色。

本发明的一实施方式的课题在于提供一种压力测定用材料,其在0.05MPa以下的微小压力下的发色的层次性优异,并且由摩擦引起的发色得到抑制。

用于解决技术课题的手段

用于解决上述课题的具体的方法中包括以下方式。

<1>一种压力测定用材料,其包含:微胶囊A,内含供电子性染料前体;及

微胶囊B,内含熔点或流点为30℃以下的溶剂及熔点超过30℃的极性有机化合物,并且不内含供电子性染料前体。

<2>根据<1>所述的压力测定用材料,其中,熔点超过30℃的极性有机化合物是具有碳原子数12以上的烷基和酰胺键的化合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880036865.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top