[发明专利]分析物传感器和用于制造分析物传感器的方法

权利要求书

1.一种平面柔性分析物传感器，包括：

聚酯基底层，具有直接形成在所述基底层上的溅射铂层；

第一电极，所述第一电极通过激光烧蚀所述溅射铂层而形成；

第二电极，所述第二电极通过激光烧蚀溅射铂层而形成；

银/氯化银油墨层，所述银/氯化银油墨层通过丝网印刷形成在所述第二电极上；

绝缘电介质层，所述绝缘电介质层在所述聚酯基底层和溅射铂层上方，其中所述绝缘电介质层使所述第一电极的部分和所述第二电极的部分暴露，所述绝缘电介质层配置成防止电化学活性组分的扩散；

保护层，所述保护层包封所述溅射铂层；和

电化学感测叠堆，所述电化学感测叠堆在所述第一电极上方并直接位于所述保护层上，其中所述电化学感测叠堆包括：

葡萄糖氧化酶层，所述葡萄糖氧化酶层在所述保护层上方；和

葡萄糖限制膜，所述葡萄糖限制膜在所述葡萄糖氧化酶层上方。

2.根据权利要求1所述的平面柔性分析物传感器，其中所述葡萄糖限制膜直接在所述葡萄糖氧化酶层上。

3.根据权利要求1所述的平面柔性分析物传感器，其中：

所述葡萄糖氧化酶层具有3微米(μm)至6微米(μm)的厚度；并且

所述葡萄糖限制膜具有10微米(μm)至30微米(μm)的厚度。

4.根据权利要求1所述的平面柔性分析物传感器，其中：

所述葡萄糖氧化酶层具有4.2微米(μm)至4.4微米(μm)的厚度；并且

所述葡萄糖限制膜具有20微米(μm)至22微米(μm)的厚度。

5.根据权利要求1所述的平面柔性分析物传感器，其中所述电化学感测叠堆还包括：

蛋白质层，所述蛋白质层在所述葡萄糖氧化酶层上；和

粘附促进层，所述粘附促进层在所述蛋白质层上，其中所述葡萄糖限制膜设置在所述粘附促进层上。

6.根据权利要求1所述的平面柔性分析物传感器，其中所述保护层直接在所述溅射铂层上，其中所述葡萄糖氧化酶层直接在所述保护层上，并且其中所述葡萄糖限制膜直接在所述葡萄糖氧化酶层上。

7.根据权利要求1所述的平面柔性分析物传感器，其中所述电化学感测叠堆还包括干扰抑制层。

8.根据权利要求1所述的平面柔性分析物传感器，其中所述基底层具有第一侧面，其中所述第一电极布置在所述基底层的第一侧面上，其中所述保护层覆盖所述基底层的整个第一侧面，其中所述保护层的厚度为5nm至200nm。

9.一种分析物传感器，包括：

聚酯基底，具有底面直接形成在所述聚酯基底上的溅射铂层；

第一电极，所述第一电极通过激光烧蚀所述溅射铂层而形成；

第二电极，所述第二电极通过激光烧蚀所述溅射铂层而形成；

银/氯化银油墨层，所述银/氯化银油墨层通过丝网印刷形成在所述第二电极上；

绝缘电介质层，所述绝缘电介质层在所述聚酯基底和溅射铂层上方，其中所述绝缘电介质层使所述第一电极的部分和所述第二电极的部分暴露，所述绝缘电介质层配置成防止电化学活性组分的扩散；

保护层，所述保护层包封所述溅射铂层；和

电化学感测叠堆，所述电化学感测叠堆在所述第一电极上方并直接位于所述保护层上。

10.根据权利要求9所述的分析物传感器，其中所述溅射铂层的底面直接位于所述聚酯基底的上表面上，并且其中所述聚酯基底的上表面具有5nm至80nm的表面粗糙度。

11.根据权利要求9所述的分析物传感器，其中所述电化学感测叠堆包括：

葡萄糖氧化酶层，所述葡萄糖氧化酶层在所述保护层上；和

葡萄糖限制膜，所述葡萄糖限制膜在所述葡萄糖氧化酶层上。