[发明专利]用于内部涂覆的等离子体涂覆喷枪

权利要求书

1.一种用于等离子体过程的涂覆喷枪，

所述喷枪包括等离子体轴、等离子体颈部和等离子体头部，所述等离子体轴包括纵向通道，所述纵向通道沿轴向方向沿着从第一轴端到第二轴端的轴线延伸，

所述等离子体颈部包括轴附接件和头部附接件以及至少一个颈部通道，所述至少一个颈部通道从所述轴附接件延伸到所述头部附接件，并且所述轴附接件布置在所述第二轴端处，使得所述纵向通道通向所述至少一个颈部通道，

所述等离子体头部包括颈部附接件、等离子体开口和至少一个头部通道，所述至少一个头部通道从所述颈部附接件延伸到所述等离子体开口，并且所述等离子体头部的所述颈部附接件布置在所述等离子体颈部的所述头部附接件处，使得所述至少一个颈部通道通向所述头部通道，其特征在于，等离子体通道的路线偏离所述轴线，使得所述颈部通道并不相对于所述轴线定中心地、即相对于所述轴线偏移地通向所述头部通道。

2.根据权利要求1所述的涂覆喷枪，其特征在于，所述等离子体颈部可拆卸地固定在所述第二轴端处。

3.根据前述权利要求中的任一项所述的涂覆喷枪，其特征在于，所述颈部通道具有至少一个曲率，并且优选地具有带有相反符号的至少两个曲率。

4. 根据前述权利要求中的任一项所述的涂覆喷枪，其特征在于，由所述等离子体开口的边缘限定的平面相对于所述轴线倾斜达角度α < 0°。

5.一种用于制造根据前述权利要求中的任一项所述的涂覆喷枪的过程，其特征在于，至少所述等离子体颈部、优选地还有所述等离子体头部借助于增材制造过程、优选地通过成层结构被制造。

6.根据权利要求6所述的过程，其特征在于，所述等离子体轴中的所述纵向通道至少部分地借助于深孔钻削被制造。