[发明专利]用于制造滑动面的方法在审
申请号: | 201880035353.1 | 申请日: | 2018-03-23 |
公开(公告)号: | CN110709531A | 公开(公告)日: | 2020-01-17 |
发明(设计)人: | 奥利弗·维特尔;克劳斯·费尔德纳;斯特凡·杜普克;霍尔格·佩措尔德;弗兰克·施勒雷格;泽格·库尔萨韦 | 申请(专利权)人: | 舍弗勒技术股份两合公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/58;C23C16/26;C23C16/56;F02M59/10;F01L1/14 |
代理公司: | 11219 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李骥;贾翼鸥 |
地址: | 德国黑措*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 机器元件 滑动面 涂覆部 表面结构 隆起 激光 减小摩擦 局部相变 施加 制造 | ||
本发明涉及用于制造在机器元件(2)上的滑动面(1)的方法,其中,机器元件(2)的滑动面(1)被设置成用于与至少一个另外的机器元件滑动接触,其中,首先将涂覆部(4)至少部分施加到机器元件(2)的表面上,其中随后,为了减小摩擦借助激光至少部分地在涂覆部(4)上构造有表面结构(3),其中,表面结构(3)包括多个隆起部(7),通过借助激光对涂覆部(4)进行局部相变构成隆起部。此外,本发明还涉及具有根据前述的方法构成的滑动面(1)的机器元件(2)。
技术领域
本发明涉及用于制造在机器元件上的滑动面的方法。此外,本发明还涉及具有滑动面的机器元件。
背景技术
DE 10 2009 060 924 A1描述了一种用于真空摩擦应用的包含固体润滑剂的结构。在此,在基底上构造有层系统,层系统包括由类金刚石的碳构成的层。此外,在层系统中或在基底中并且在层系统中借助激光干涉方法构造有凹陷结构,其被填充以固体润滑剂。
发明内容
本发明的任务在于,研发一种用于制造在机器元件上的滑动面的方法和具有滑动面的机器元件。
该任务基于权利要求1的前序部分结合其具有区分性的特征来解决。相关的从属权利要求反映了本发明的有利的改进方案。
在根据本发明的用于制造在机器元件上的滑动面的方法的范围内,首先将涂覆部至少部分施加到机器元件的表面上,其中随后,借助激光至少部分地在涂覆部上构造有表面结构以用于减小摩擦,其中,表面结构包括多个隆起部,这些隆起部通过借助激光对涂覆部进行局部的相变来构成。
换言之,直接在对机器元件的表面进行涂覆之后,通过借助激光对涂覆部进行局部相变来产生表面结构。通过涂覆部上的隆起部构成机器元件的滑动面。尤其地,机器元件构造为杯形挺杆。机器元件被设置成用于优选相对另外的机器元件具有滑动滚动接触性。此外,机器元件也可以被构造为用于内燃机的气门传动系统的杠杆式的凸轮从动件,或被构造为泵的部件。
涂覆部中的隆起部导致摩擦减小,摩擦减小与两个机器元件之间的有效的接触面相关。例如可以通过如下方式获得更好的摩擦,即,使机器元件的其中大约25%的表面与另外的机器元件处于有效接触中。换言之,机器元件中或构造在其上的涂覆部的表面中的大约四分之一被隆起部覆盖,隆起部与另外的机器元件处于有效接触中。但替选地,机器元件的其中更大或更小份额的表面也可以被隆起部覆盖。隆起部优选布置在杯形挺杆端面上,并且尤其是呈圆形地布置在多个具有不同的直径的圆形轨迹上。此外,隆起部可以螺旋形或随机分布地布置在杯形挺杆端面上,或也以交替的均匀分布或随机地布置的形式构造。补充地,可以在杯形挺杆周侧面上构造有另外的隆起部。在此,这些隆起部可以布置在环绕的圆形轨迹上,这些圆形轨迹相互轴向间隔开地布置。此外,这些隆起部可以随机分布地布置在杯形挺杆周侧面上。优选地,这些隆起部具有0.02至2μm的高度和1至100μm的直径。在隆起部之间的径向的自由空间尤其是可以被设置成用于容纳润滑剂,从而使润滑剂保持在两个机器元件之间的滑动面中。
表述“至少部分”被理解为,表面结构和涂覆部至少构造在机器元件的表面其中一部分上。但此外也可想到的是,表面结构和涂覆部构造在机器元件的整个表面上。
优选地,涂覆部通过PVD或PACVD或CVD方法至少部分地被施加到机器元件的表面上。换言之,涂覆部根据按照PVD(Physical Vapour Deposition(物理气相沉积))或PACVD(Plasma-Assisted Chemical Vapour Deposition(等离子体辅助化学气相沉积))或CVD(Chemical Vapour Depostition(化学气相沉积))的方法施加。在PVD方法中,例如通过喷溅将颗粒从目标材料取出,并且在等离子体中传输到机器元件的表面上。在CVD方法中,基于气相的化学反应实现在机器元件的加热的表面上的层沉积。此外,在PACVD方法中,层沉积例如经由含碳氢化合物的气体的等离子体激励实现。
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