[发明专利]纹理化玻璃制品及其制造方法有效
| 申请号: | 201880035133.9 | 申请日: | 2018-03-16 |
| 公开(公告)号: | CN110678426B | 公开(公告)日: | 2022-08-09 |
| 发明(设计)人: | R·R·小汉考克;K·K·休斯;金宇辉;李艾泽 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号: | C03C3/091 | 分类号: | C03C3/091;C03C3/093;C03C3/097;C03C15/00;C03C17/30;C03C21/00;C09K13/00 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 徐鑫;项丹 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 纹理 玻璃制品 及其 制造 方法 | ||
1.一种纹理化玻璃制品,其包括:
包括厚度、主表面和位于厚度中点处的块体组成的玻璃基材;和
通过所述主表面限定且包含纹理化区域组成的纹理化区域,
其中,所述纹理化区域包括2%或更小的闪光以及多孔沥滤层,以及
其中,块体组成包含40摩尔%至80摩尔%二氧化硅,以及纹理化区域组成包含至少40摩尔%二氧化硅。
2.如权利要求1所述的制品,其中,所述纹理化区域还包括10纳米至500纳米的表面粗糙度(Ra)。
3.如权利要求1所述的制品,其中,块体组成选自下组:铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃和磷硅酸盐玻璃。
4.如权利要求1所述的制品,其中,所述纹理化区域组成和块体组成分别包括基本等量的二氧化硅。
5.如权利要求1所述的制品,其中,所述纹理化区域组成包含的二氧化硅量高于块体组成中的二氧化硅。
6.如权利要求1所述的制品,其中,所述玻璃基材还包括从主表面延伸到选定深度的压缩应力区域。
7.如权利要求6所述的制品,其还包括布置在纹理化区域上的易清洁涂层,所述易清洁涂层包括含氟硅烷。
8.如权利要求1所述的制品,其中,所述制品表征为雾度是大于0%至100%。
9.一种消费者电子产品,其包括:
具有前表面、背表面和侧表面的外壳;
至少部分提供在外壳内的电子组件,所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器,所述显示器提供在外壳的前表面处或者与外壳的前表面相邻;和
布置在所述显示器上的覆盖玻璃,
其中,一部分的外壳或者覆盖玻璃中的至少一个包括如权利要求1-8中任一项所述的制品。
10.一种纹理化玻璃制品,其包括:
包括厚度、主表面和位于厚度中点处的块体组成的玻璃基材;和
通过所述主表面限定且包含纹理化区域组成和多孔沥滤层的纹理化区域,
其中,所述纹理化区域包括2%或更小的闪光以及在被所述主表面限定的平面中的多个暴露特征体,所述暴露特征体具有小于5微米的平均最大尺度,以及
其中,块体组成包含40摩尔%至80摩尔%二氧化硅,以及纹理化区域组成包含至少40摩尔%二氧化硅。
11.如权利要求10所述的制品,其中,所述纹理化区域还包括10纳米至500纳米的表面粗糙度(Ra)。
12.如权利要求10所述的制品,其中,块体组成选自下组:铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃和磷硅酸盐玻璃。
13.如权利要求10所述的制品,其中,所述纹理化区域组成和块体组成分别包括基本等量的二氧化硅。
14.如权利要求10所述的制品,其中,所述纹理化区域组成包含的二氧化硅量高于块体组成中的二氧化硅。
15.如权利要求10所述的制品,其中,所述玻璃基材还包括从主表面延伸到选定深度的压缩应力区域。
16.如权利要求15所述的制品,其还包括布置在纹理化区域上的易清洁涂层,所述易清洁涂层包括含氟硅烷。
17.如权利要求16所述的制品,其中,所述制品表征为雾度是大于0%至100%。
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