[发明专利]用于线圈激励式位置传感器的目标

权利要求书

1.一种设备，包含：

用于磁场位置传感器系统的目标，所述系统包括磁场传感器，所述目标包括柱体，所述柱体包含传导性材料的第一部分，所述第一部分具有围绕所述柱体的圆周的变化的厚度，其中，第一部分的所述厚度随着所述柱体的角度而变化，所述变化的厚度提供所述传导性材料的第一部分对具有非零频率的由所述磁场传感器生成的磁场的变化的响应；

所述目标还包括传导性材料的基准部分，所述基准部分设置成使得基准部分具有对所述生成的磁场相对不变的响应，

其中，所述生成的磁场使所述传导性材料中产生涡电流，所述涡电流生成反射磁场，其中，第一部分的所述变化的响应致使第一部分的反射磁场的强度绕着所述柱体的圆周变化，并且传导性材料的所述基准部分响应于所述生成的磁场产生相对不变的反射磁场，从而允许通过所述磁场传感器来检测所述柱体的角度。

2.如权利要求1所述的设备，其中，所述柱体还包括低传导率材料，所述低传导率材料物理地联接到所述传导性材料。

3.如权利要求1所述的设备，其中，所述变化的响应至少部分地基于所述传导性材料的第一部分的厚度。

4.如权利要求1所述的设备，其中，所述变化的响应是由于所述传导性材料的第一部分的正被检测的部分与所述磁场的源之间的距离。

5.如权利要求1所述的设备，其中，所述设备包括杆。

6.如权利要求5所述的设备，其中，所述传导性材料的第一部分具有沿着所述杆的长度变化的厚度。

7.如权利要求6所述的设备，其中，所述传导性材料的第一部分的厚度沿着所述杆的所述长度大致线性地变化。

8.如权利要求5所述的设备，其中，所述传导性材料包括沿着所述杆的所述长度定位的井。

9.如权利要求8所述的设备，其中，所述井通过传导性材料的相对薄的部分相连接。

10.如权利要求1所述的设备，其中，所述传导性材料的第一部分的厚度沿着所述柱体的径向维度变化。

11.如权利要求1所述的设备，其中，所述传导性材料的第一部分的厚度沿着所述柱体的轴向维度变化。

12.一种设备，包含：

用于磁场位置传感器系统的目标，所述系统包括磁场传感器，所述目标包括柱体，所述柱体包含具有第一传导率的第一材料和绕着所述柱体的圆周定位的多个井，所述多个井包含第二材料，所述第二材料具有高于所述第一传导率的第二传导率并且提供对具有非零频率的由所述磁场传感器生成的磁场的响应，

所述目标还包括传导性材料的基准部分，所述基准部分设置成使得基准部分具有对所述生成的磁场相对不变的响应，

其中，所述生成的磁场使所述第二材料中产生涡电流，所述涡电流生成反射磁场，并且

其中，所述第二材料的响应致使第二材料的反射磁场的强度绕着所述柱体的圆周变化，并且所述传导性材料的基准部分响应于所述生成的磁场产生相对不变的反射磁场，从而允许通过所述磁场传感器来检测所述柱体的角度。

13.如权利要求12所述的设备，其中，所述多个井包括井的两个或更多个圆形排列，所述井的两个或更多个圆形排列各自绕着所述柱体呈圆形布置。