[发明专利]利用反射磁场的线圈激励式位置传感器有效

专利信息
申请号: 201880034849.7 申请日: 2018-04-20
公开(公告)号: CN110662942B 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: A·莱瑟姆;C·费尔蒙;M·帕内捷-勒克尔;B·卡杜甘 申请(专利权)人: 阿莱戈微系统有限责任公司;原子能和辅助替代能源委员会
主分类号: G01D5/14 分类号: G01D5/14;G01R33/06;H03K17/95
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 李隆涛
地址: 美国新罕*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 利用 反射 磁场 线圈 激励 位置 传感器
【权利要求书】:

1.一种磁场传感器,包括:

至少一个线圈,所述至少一个线圈响应于AC线圈驱动信号,其中,所述至少一个线圈包括第一多个环路和与第一多个环路以一间隙隔开的第二多个环路;

至少两个间隔开的磁场感测元件,所述至少两个间隔开的磁场感测元件包括响应于感测元件驱动信号并邻近所述至少一个线圈定位的第一磁场感测元件和第二磁场感测元件,其中,第一和第二磁场感测元件在所述间隙内对齐而未叠覆第一多个环路和第二多个环路的任何部分;以及

电路,所述电路联接到所述至少两个间隔开的磁场感测元件以:

通过测量由传导性目标反射的第一反射磁场,来测量传导性目标与第一磁场感测元件之间的第一距离;以及

通过测量由传导性目标反射的第二反射磁场,来测量传导性目标与第二磁场感测元件之间的第二距离,其中,所述电路通过获取所测量的第一距离和第二距离的差来生成磁场传感器的输出信号。

2.如权利要求1所述的磁场传感器,其中,所述磁场感测元件中的至少一个配置成检测由所述至少一个线圈生成的直接耦合磁场和由传导性目标反射的反射磁场,其中,所述至少一个线圈和所述至少两个间隔开的磁场感测元件的配置选择成使得实现对于所述直接耦合磁场的预定水平。

3.如权利要求2所述的磁场传感器,其中,所述至少一个线圈和所述至少两个间隔开的磁场感测元件的配置选择成最小化所述直接耦合磁场的预定水平。

4.如权利要求1所述的磁场传感器,其中,所述至少一个线圈包括单个线圈。

5.如权利要求1所述的磁场传感器,其中,所述第一多个环路配置成具有沿着第一方向的电流,并且所述第二多个环路配置成具有沿着第二方向的电流。

6.如权利要求1所述的磁场传感器,其中,所述至少两个间隔开的磁场感测元件包括至少四个磁场感测元件,所述至少四个磁场感测元件电联接以形成至少一个桥。

7.如权利要求1所述的磁场传感器,其中,所述至少两个间隔开的磁场感测元件包括至少八个磁场感测元件,所述至少八个磁场感测元件电联接以形成至少两个桥。

8.如权利要求1所述的磁场传感器,其中,所述传导性目标包括压力敏感元件,并且所述输出信号还指示与所述压力敏感元件关联的压力。

9.如权利要求1所述的磁场传感器,其中,所述AC线圈驱动信号具有第一频率,并且所述感测元件驱动信号具有第二频率。

10.如权利要求9所述的磁场传感器,其中,所述AC线圈驱动信号的第一频率至少部分地基于与传导性目标关联的集肤效应来选择。

11.如权利要求9所述的磁场传感器,其中,所述AC线圈驱动信号和所述感测元件驱动信号由公共源提供,并且其中,所述AC线圈驱动信号的第一频率和所述感测元件驱动信号的第二频率大致相同。

12.如权利要求11所述的磁场传感器,其中,所述第一频率和第二频率响应于如下来选择:将所述第一频率从第一频率值变化到第二频率值,并将与第一频率值关联的输出信号同与第二频率值关联的输出信号进行比较,以检测干扰。

13.如权利要求9所述的磁场传感器,其中,所述AC线圈驱动信号和所述感测元件驱动信号由独立的源提供。

14.如权利要求13所述的磁场传感器,其中,所述感测元件驱动信号的第二频率近似为DC。

15.如权利要求13所述的磁场传感器,其中,所述AC线圈驱动信号的第一频率响应于如下来选择:将所述第一频率从第一频率值变化到第二频率值,并将与第一频率值关联的输出信号同与第二频率值关联的输出信号进行比较,以检测干扰。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿莱戈微系统有限责任公司;原子能和辅助替代能源委员会,未经阿莱戈微系统有限责任公司;原子能和辅助替代能源委员会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880034849.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top