[发明专利]用于化学转化的氧化性液体介质

权利要求书

1.一种氧化性组合物，其包含：

(a)氧化性亲电体，其包含氧化形式的主族元素和至少一个含氧酸的共轭阴离子；

(b)不可氧化的液体，其选自氟化烃、砜、减活的芳烃、减活的脂族、减活的杂芳烃、减活的杂脂族，及它们的组合；和

(c)任选地，式Q_aZ_b的一种或多种盐添加剂，其中Q是阳离子，Z是桥接氧化物、末端氧化物、氢氧化物或含氧酸的共轭阴离子，a是1至5的整数，并且b是1至5的整数，其中a和b相同或不同，并且平衡Q和Z的氧化态；并且

其中所述不可氧化的液体在所述氧化性亲电体的存在下是基本上惰性的。

2.根据权利要求1所述的氧化性组合物，其中所述氧化性亲电体具有式M⁺ⁿX_pL_q，其中M是氧化态为n的主族元素阳离子，X是含氧酸的共轭阴离子，L是配体，n是2至6的整数，p是1至6的整数，并且q是0至5的整数。

3.根据权利要求1或2所述的氧化性组合物，其中所述含氧酸的共轭阴离子是脂族羧酸根、杂脂族羧酸根、芳族羧酸根、杂芳族羧酸根、脂族磺酸根、杂脂族磺酸根、芳族磺酸根、杂芳族磺酸根、脂族磷酸根、杂脂族磷酸根、芳族磷酸根、杂芳族磷酸根、脂族硼酸根、杂脂族硼酸根、芳族硼酸根、杂芳族硼酸根，或它们的混合物。

4.根据权利要求2或3所述的氧化性组合物，其中每个配体相同或不同，并且各自包含至少一个吸电子基团。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的氧化性组合物，其包含式Q_aZ_b的一种或多种盐添加剂。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的氧化性组合物，其中所述氧化性亲电体包含铊、铅、锑、汞、锡、硒、碲、砷、碘或铋。

7.根据权利要求2-6中任一项所述的氧化性组合物，其还包含氧化性再生试剂以产生和/或再生所述式M⁺ⁿX_pL_q的氧化性亲电体。

8.根据权利要求7所述的氧化性组合物，其中所述氧化性再生试剂是醌、分子氧、空气、过氧化物、一氧化氮、一氧化二氮、硝酸、胺氧自由基、三氧化硫、臭氧，或它们的组合。

9.根据权利要求7或8所述的氧化性组合物，其还包含氧化性再生催化剂以产生和/或再生所述式M⁺ⁿX_pL_q的氧化性亲电体。

10.根据权利要求9所述的氧化性组合物，其中所述氧化性再生催化剂包含铜、银、铁、钴、锰、镍、铬、钒，或它们的组合。

11.根据权利要求5-10中任一项所述的氧化性组合物，其中X和Z相同。

12.根据权利要求5-10中任一项所述的氧化性组合物，其中X和Z不同。

13.根据权利要求2-12中任一项所述的氧化性组合物，其中X是选自以下的一种或多种：脂族羧酸根、杂脂族羧酸根、芳族羧酸根、杂芳族羧酸根、脂族磺酸根、杂脂族磺酸根、芳族磺酸根、杂芳族磺酸根、脂族磷酸根、杂脂族磷酸根、芳族磷酸根、杂芳族磷酸根、脂族硼酸根、杂脂族硼酸根、芳族硼酸根、杂芳族硼酸根，以及它们的混合物。

14.根据权利要求5-13中任一项所述的氧化性组合物，其中Z为含氧酸的共轭阴离子，其是选自以下的一种或多种：脂族羧酸根、杂脂族羧酸根、芳族羧酸根、杂芳族羧酸根、脂族磺酸根、杂脂族磺酸根、芳族磺酸根、杂芳族磺酸根、脂族磷酸根、杂脂族磷酸根、芳族磷酸根、杂芳族磷酸根、脂族硼酸根、杂脂族硼酸根、芳族硼酸根、杂芳族硼酸根，以及它们的混合物。