[发明专利]用于控制后处理系统中的流量分布的系统和方法

权利要求书

1.一种后处理系统，包括：

选择性催化还原SCR系统，其包括SCR催化剂；

差压dP传感器，其操作地耦合到所述SCR系统，所述dP传感器被配置为测量SCR催化剂上的压差值；

温度传感器，其可操作性地耦合到所述SCR催化剂并被配置为测量所述SCR催化剂的温度；以及

控制器，其与所述dP传感器和所述温度传感器中的每一个通信地耦合，所述控制器被配置为：

确定来自所述dP传感器的第一输出值，所述第一输出值表示所述SCR催化剂上的所述压差值；

确定来自所述温度传感器的第一温度输出值，所述第一温度输出值表示所述SCR催化剂的温度；

计算所述SCR催化剂的流量系数；

基于所述第一温度输出值计算所述SCR催化剂内部的排气的密度；以及

使用来自所述dP传感器的所述第一输出值、所述流量系数和所述SCR催化剂内部的所述排气的所述密度，来估计来自所述后处理系统的排气质量流量输出。

2.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述排气质量流量输出使用来估计，

其中，k是实现为的所述流量系数，以及ΔP是所述SCR催化剂上的压差。

3.根据权利要求2所述的后处理系统，其中，所述密度使用来估计，其中，R是通用气体常数，P_bed根据获得的关于所述SCR系统中的所述SCR催化剂的催化剂床的压力的数据来确定，并且T_bed根据从所述SCR系统中的所述SCR催化剂的催化剂床的温度的温度传感器获得的数据来确定。

4.根据权利要求3所述的后处理系统，其中所述流量系数k是从在不同的排气质量流量水平下的稳态数据的映射中获得的值。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的后处理系统，还包括：

排气质量流量传感器，

其中，所述控制器还被配置为：

从所述排气质量流量传感器获得排气质量流量值，

将估计的排气质量流量与从所述排气质量流量传感器获得的所述排气质量流量值进行比较，以及

响应于将所述估计的排气质量流量与从所述排气质量流量传感器获得的所述排气质量流量值进行比较，检测所述排气质量流量传感器中的误差。

6.一种后处理系统，包括：

选择性催化还原SCR系统，其包括SCR催化剂；

微粒过滤器，其流体地耦合到所述SCR系统；

微粒过滤器外压力传感器，其操作地耦合到所述微粒过滤器的出口，所述微粒过滤器外压力传感器被配置为测量所述微粒过滤器的出口处的压力值；

温度传感器；

环境压力传感器；以及

控制器，其与所述微粒过滤器外压力传感器通信地耦合，所述控制器被配置为：

确定来自所述微粒过滤器外压力传感器的第一输出值，所述第一输出值表示所述微粒过滤器的出口处的所述压力值；

确定来自所述温度传感器的第一温度输出值，所述第一温度输出值表示所述SCR系统的温度；以及

确定来自所述环境压力传感器的第二输出值，所述第二输出值表示环境压力值；以及

使用来自所述微粒过滤器外压力传感器的所述第一输出值、来自所述温度传感器的所述第一温度输出值和来自所述环境压力传感器的所述第二输出值，来估计来自所述后处理系统的排气质量流量输出。

7.根据权利要求6所述的后处理系统，其中，估计来自所述后处理系统的所述排气质量流量输出包括计算所述SCR系统的流量系数。

8.根据权利要求6所述的后处理系统，其中，估计所述排气质量流量输出包括计算所述SCR系统的流量系数和基于所述第一温度输出值计算所述SCR系统内部的排气质量流量的密度。