[发明专利]喷嘴装置及其制造方法

权利要求书

1.一种用于使液体雾化的喷嘴装置(1-1；1-2；1-3)，其中该喷嘴装置(1-1；1-2；1-3)包括：

基底(3)，

包括多个筛侧孔口(5a)的筛侧膜(5)，该筛侧膜(5)设置在基底(3)的筛侧(3c)上，

包括多个喷雾侧孔口(7a)的喷雾侧膜(7)，该喷雾侧膜(7)设置在基底(3)的喷雾侧(3d)上，

其中基底(3)具有延伸至筛侧膜(5)的第一腔体部(4a)以及从第一腔体部(4a)延伸至喷雾侧膜(7)的第二腔体部(4b)，从而沿着流体连通轴(9)在筛侧孔口(5a)与喷雾侧孔口(7a)之间实现流体连通，第一腔体部(4a)的横截面积(11)大于第二腔体部(4b)的横截面积(13)，所述横截面是关于流体连通轴而言的，

其中所述基底(3)包括设有第一腔体部(4a)的第一晶片(3a)和设有第二腔体部(4b)的第二晶片(3b)，第一晶片(3a)和第二晶片(3b)彼此结合以形成基底(3)。

2.如权利要求1所述的喷嘴装置(1-1；1-2；1-3)，其中所述第一腔体部(4a)的任何横截面积都大于所述第二腔体部(4b)的任何横截面积。

3.如权利要求1或2所述的喷嘴装置(1-1；1-2；1-3)，其中每个喷雾侧孔口(7a)的横截面积大于或等于任何一个筛侧孔口(5a)的横截面积。

4.如权利要求1或2所述的喷嘴装置(1-1；1-2；1-3)，其中所述筛侧孔口(5a)的数量大于所述喷雾侧孔口(7a)的数量。

5.如权利要求1或2所述的喷嘴装置(1-1；1-2；1-3)，其中所述筛侧孔口(5a)在筛侧膜(5)上所占的面积大于所述喷雾侧孔口(7a)在喷雾侧膜(7)上所占的面积。

6.如权利要求1或2所述的喷嘴装置(1-1；1-2；1-3)，其中所述基底(3)由半导体材料制成。

7.如权利要求1或2所述的喷嘴装置(1-1；1-2；1-3)，其中所述筛侧膜(5)和所述喷雾侧膜(7)包括非氧化物陶瓷、氧化物、硅或金属中的一种。

8.如权利要求1或2所述的喷嘴装置(1-1；1-3)，其中所述基底(3)包括从第一腔体部(4a)延伸至喷雾侧膜(7)的多个第二腔体部(4b)，从而沿相应的流体连通轴(9)在筛侧孔口(5a)与喷雾侧孔口(7a)之间实现流体连通，第一腔体部(4a)的横截面积大于任何第二腔体部(4b)的横截面积。

9.如权利要求8所述的喷嘴装置(1-1；1-3)，其中所述第二腔体部(4b)关于流体连通轴(9)的总横截面积小于设有筛侧孔口(5a)的筛侧膜(5)的面积。

10.一种药剂输送装置(15)，包括如权利要求1-9中的任一项所述的喷嘴装置(1-1；1-2；1-3)。

11.如权利要求10所述的药剂输送装置(15)，其中该药剂输送装置(15)是吸入器或滴眼器。