[发明专利]用于保护光致聚合物-膜复合结构中全息图的具有UV-固化的粘合剂层的塑料膜

说明书

本发明涉及用于保护光致聚合物‑膜复合结构中全息图的具有UV‑固化的粘合剂层的塑料膜。具体地，本发明涉及一种具有包含光致聚合物层和密封层的层结构的密封全息介质，一种用于制备密封全息介质的方法，一种成套部件，一种用于密封的层结构及其用途。

本发明涉及一种具有包含光致聚合物层和密封层的层结构的密封全息介质，一种用于制备密封全息介质的方法，一种成套部件，一种用于密封的层结构及其用途。

用于制备全息介质的光致聚合物层基本上例如由WO 2011/054797和WO 2011/067057已知。这些全息介质的优点是其高的光衍射效率和简化的加工，因为在全息曝光之后不需要进一步的化学和/或热显影步骤。

全息膜（Covestro Deutschland AG公司的Bayfol® HX）由膜基材（A）和感光的光致聚合物层（B）组成。光学全息图在层（B）中通过局部光聚合形成，并通过面状的UV-VIS-曝光定影。由此由层（B）产生具有预先写入的全息图的不再感光的完全聚合的层（B'）。尽管该全息图本身长期非常稳定，但由于机械影响和/或在与例如有机物质（溶剂）接触的情况下可能改变其性能。

在这种情况下可考虑的保护方法是涂覆、层压、粘合一个保护层和/或一个保护膜。对于许多应用来说，需要使包含全息图的层（B'）不是通过涂料而是通过保护膜来保护免受环境的侵害，并且尽可能地与保护膜密不可分地接合。然而，在粘合的情况下产生与液体粘合剂组分相关的多方面问题，这些组分在与（B'）层接触时完全破坏了全息图或由于严重的光学偏移而使其失效。还成问题的是提供一种粘合剂组分，其能够牢固地粘附到两种材料，即包含全息图的层B'和保护膜上。

合适的保护膜应可层压在包含全息图的层（B'）上，并且保护膜上的粘合剂层应对全息图是中性的，即它不会引起全息图强度变差并且不会导致其反射最大值的光谱偏移，并且还应牢固地粘附到两个邻接层，即包含全息图的层和保护膜上。此外，密封后应确保好的耐溶剂性以及柔韧性、弹性。

专利申请JP2006023455（A）和JP2006023456（A）描述了一种用于记录全息图的介质，该介质包含基材层，光致聚合物层和一个或两个保护层。在这种情况下将保护层与基材层粘合，由此将光致聚合物层嵌入在基材层和保护层之间，而本身不与这两个层粘合。优选地，这些受保护的全息介质用于ID卡中。对于全息介质的大多数应用，对全息介质的整个面在均匀性和质量方面都有着高要求；对此而言，这样的层结构很难或完全不能实现。

专利申请EP 2613318 B1描述了通过适当地选择组分，可以在曝光的光致聚合物层上施加保护层。这些保护层可通过至少一种辐射固化树脂I），异氰酸酯官能树脂II）和光引发剂体系III）的反应来制备。EP 2613318 B1中描述的保护层满足了对合适的保护层的基本要求，因为它们在施用后能够提供具有保护层和曝光的光致聚合物层的层结构，该层结构可以与各种各样的邻接层例如粘合剂层牢固地接合，而不会导致光致聚合物层的体积变化和全息图的相应颜色变化。

然而，EP 2 613 318中公开的组合物不是在每个方面都令人满意。由于异氰酸酯官能树脂的存在，它们相对湿气不稳定并且对异氰酸酯反应性组分例如OH和NH₂基团具有化学反应性。然而，这类基团通常存在于辐射固化树脂或工业配制剂中必不可少的其它助剂中。此外，所述保护层是以“湿”状态，即溶液或分散液的形式施加在光致聚合物层上。但在工业实践中，建造相应的液体施用装置并提供人员来控制涂覆过程是复杂且昂贵的。因此，层压方法是优选的，但是其缺点是它们经常导致膜复合结构的粘附性不足。

因此，本发明的目的是提供一种开头提到类型的层复合结构，其中密封件易于施加，牢固地粘附到包含全息图的层上，尽可能不影响曝光的光致聚合物层的光学性能并且确保长久抵抗外部影响。

该目的通过根据本发明的包含层结构B'-C'-D的密封全息介质来实现，其中

B'是包含全息图，优选体积全息图的光致聚合物层，其可由包含下列物质的未曝光的光致聚合物B获得