[发明专利]用于EUV曝光工具的具有弯曲一维图案化掩模的照明系统

权利要求书

1.一种反射系统，具有参考轴且包括：

反射图案源，在上面承载实质上一维(1D)图案；以及

仅有两个反射光学组件的组合，所述仅有两个反射光学组件相对于彼此依序光学设置以将极紫外线辐射转移至所述图案源上，

所述两个光学组件中的每一者具有非零光学功率，

所述组合相对于所述图案源设置成实质上固定的空间及光学关系；

其中所述组合表示极紫外线曝光工具的照明单元(IU)，所述照明单元被配置成在与所述图案源光学共轭的图像平面上利用仅有两束辐射以N>1的减缩因数形成所述图案源的光学图像，

所述仅有两束辐射在所述图案源处起源于被转移至所述图案源上的所述极紫外线辐射。

2.根据权利要求1所述的反射系统，其中所述两个光学组件中的至少一者包括含有个别反射元件的阵列的蝇眼(FE)反射镜。

3.根据权利要求1至2中任一项所述的反射系统，其中所述图案源定位于所述仅有两个反射光学组件中的一者的构成个别反射元件中。

4.根据权利要求2所述的反射系统，其中所述仅有两个反射光学组件中的所述一者的所述个别反射镜元件具有长斜方形形状。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的反射系统，其中所述图案源包括相移掩模。

6.所述极紫外线曝光工具，含有根据权利要求1至5、1中任一项所述的反射系统，所述反射系统被配置为所述极紫外线曝光工具的所述照明单元。

7.根据权利要求6所述的极紫外线曝光工具，进一步包括工件，所述工件被定位于所述图像平面处且被配置成能够响应于所述参考轴横向移动。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的含有反射系统的极紫外线曝光工具，其中所述图案具有第一空间频率，所述光学图像具有第二空间频率，且其中所述极紫外线曝光工具被配置成确保所述第二空间频率为所述第一空间频率的至少两倍。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的反射系统，其中所述图案源是由非零光学功率表征。

10.一种光刻曝光工具，具有光学元件串，所述光学元件串被定位成将极紫外线(EUV)辐射递送至目标工件，所述光学元件串包括：

反射照明单元(IU)，含有两个反射镜；

反射图案源，在上面承载实质上一维(1D)图案且被配置成接收经由所述照明单元被递送至所述反射图案源的所述极紫外线辐射并在所述实质上一维图案处衍射所述极紫外线辐射，以形成所述极紫外线辐射的第一衍射束及第二衍射束，其中所述实质上一维图案设置于在空间上弯曲的表面中；以及

反射投影光学器件(PO)子系统，具有参考轴且被定位成自所述图案源接收所述第一衍射束及所述第二衍射束，并在与所述图案源光学共轭的图像平面处利用仅有的所述第一衍射束及所述第二衍射束以N>1的减缩因数形成所述图案源的光学图像。

11.根据权利要求10所述的曝光工具，

其中所述实质上一维图案具有第一空间频率，所述光学图像具有第二空间频率，且

其中所述第二光学频率为所述第一光学频率的至少两倍。

12.根据权利要求10至11中任一项所述的曝光工具，其中所述反射照明单元含有仅有两个反射镜。

13.根据权利要求10至11中任一项所述的曝光工具，其中所述图案源相对于所述照明单元及所述投影光学器件子系统被设置成实质上固定的空间关系。

14.根据权利要求10至13中任一项所述的曝光工具，其中所述第一衍射束及所述第二衍射束表示自所述极紫外线辐射形成的分别对应的衍射级，所述衍射级具有相等的绝对值但具有不同的符号。