[发明专利]利用EUV光刻的电网架构和优化在审
申请号: | 201880029095.6 | 申请日: | 2018-04-27 |
公开(公告)号: | CN110582767A | 公开(公告)日: | 2019-12-17 |
发明(设计)人: | 理查德·T·舒尔茨 | 申请(专利权)人: | 超威半导体公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50;H01L23/528 |
代理公司: | 31263 上海胜康律师事务所 | 代理人: | 李献忠;张静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 电源水平 竖直 标准单元 布线 轨道 从上到下 单向轨道 电网连接 电源金属 电源连接 接地连接 有效区域 节距 电源 | ||
1.一种用于标准单元的电网布局,其包括:
第一金属层中的第一多个独立电源柱,所述第一多个独立电源柱中的每个提供与所述标准单元内的器件的电源连接;
与所述第一金属层不同的第二金属层中的第二多个独立电源柱,所述第二多个独立电源柱中的每个具有小于所述标准单元的高度的长度;以及
与所述第一金属层和所述第二金属层中的每个不同的第三金属层中的多个独立电源带,所述多个独立电源带中的每个将所述第一多个独立电源柱中的一个连接到所述第二多个独立电源柱中的一个。
2.根据权利要求1所述的电网布局,其中所述多个独立电源带中的每个被布线不超过所述第一多个独立电源柱中的一个与所述第二多个独立电源柱中的一个之间。
3.根据权利要求1所述的电网布局,其中所述第二多个独立电源柱中的每个的长度是基于所述多个独立电源带的节距的最小长度。
4.根据权利要求1所述的电网布局,其中所述第二多个独立电源柱和所述多个独立电源带中的每个是单向信号布线。
5.根据权利要求1所述的电网布局,其中所述第一金属层是竖直金属1层,所述第二金属层是水平金属2层,并且所述第三金属层是竖直金属3层。
6.根据权利要求5所述的电网布局,其中所述第一多个独立电源柱中的一个或多个在器件的有效区域中从上到下布线。
7.根据权利要求5所述的电网布局,其中共享同一竖直金属3层轨道的所述第二多个独立电源柱中的至少两个之间在所述竖直金属3层轨道中具有在所述金属3层中的非电源信号布线。
8.根据权利要求5所述的电网布局,其中在所述金属0层中的多个独立电源带中的一个或多个被布线不超过用于栅极连接的沟槽硅化物触点与所述第一多个独立电源柱中的一个之间。
9.根据权利要求1所述的电网布局,其中到所述器件的所述电源连接是电源供应连接和接地参考连接中的一个。
10.一种方法,其包括:
在第一金属层中放置第一多个独立电源柱,所述第一多个独立电源柱中的每个提供与所述标准单元内的器件的电源连接;
在与所述第一金属层不同的第二金属层中放置第二多个独立电源柱,所述第二多个独立电源柱中的每个具有小于所述标准单元的高度的长度;以及
在与所述第一金属层和所述第二金属层中的每个不同的第三金属层中放置多个独立电源带,所述多个独立电源带中的每个将所述第一多个独立电源柱中的一个连接到所述第二多个独立电源柱中的一个。
11.根据权利要求10所述的方法,其还包括对所述多个独立电源带中的每个进行布线不超过所述第一多个独立电源柱中的一个与所述第二多个独立电源柱中的一个之间。
12.根据权利要求10所述的方法,其还包括以基于所述多个独立电源带的节距的最小长度对所述第二多个独立电源柱中的每个进行布线。
13.根据权利要求10所述的方法,其中所述第二多个独立电源柱和所述多个独立电源带中的每个是单向信号布线。
14.根据权利要求10所述的方法,其中所述第一金属层是竖直金属1层,所述第二金属层是水平金属2层,并且所述第三金属层是竖直金属3层。
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