[发明专利]有机EL显示器的制造方法有效
| 申请号: | 201880028327.6 | 申请日: | 2018-04-18 |
| 公开(公告)号: | CN110574495B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
| 发明(设计)人: | 池田文彦 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有机 el 显示器 制造 方法 | ||
1.一种有机EL显示器的制造方法,其特征在于:
包括光学部件形成步骤,所述光学部件形成步骤在预先形成有有机发光二极管的基片上涂敷包含液晶分子和溶剂的光学膜用涂敷液并使其干燥,来形成液晶分子已取向的光学膜,
所述光学部件形成步骤包括:
第一光学膜形成步骤,其在预先形成有所述有机发光二极管的所述基片上涂敷包含液晶分子和溶剂的第一光学膜用涂敷液并使其干燥,来形成作为相位差膜和偏振膜的任一者的第一光学膜;
第二光学膜形成步骤,其在所述第一光学膜形成步骤之后,将包含液晶分子和溶剂的第二光学膜用涂敷液涂敷在所述第一光学膜上并使其干燥,来形成作为所述相位差膜和所述偏振膜的其余一者的第二光学膜;
中间膜形成步骤,所述中间膜形成步骤在所述第一光学膜形成步骤之后所述第二光学膜形成步骤之前,将不同于所述第一光学膜用涂敷液的中间膜用涂敷液涂敷在所述第一光学膜上并使其干燥,来形成中间膜;以及
第一光学膜图案化步骤,所述第一光学膜图案化步骤在所述中间膜形成步骤之后所述第二光学膜形成步骤之前,将仅覆盖所述第一光学膜的一部分的所述中间膜作为掩模使用,来除去所述第一光学膜的其余部分。
2.如权利要求1所述的有机EL显示器的制造方法,其特征在于:
在所述第一光学膜图案化步骤中,使用溶解所述第一光学膜的清洗液。
3.如权利要求2所述的有机EL显示器的制造方法,其特征在于:
在所述第一光学膜形成步骤中,仅使所述第一光学膜的所述一部分不溶于所述第一光学膜图案化步骤中使用的所述清洗液。
4.如权利要求2所述的有机EL显示器的制造方法,其特征在于:
在所述中间膜形成步骤中,仅在所述第一光学膜的所述一部分涂敷所述中间膜用涂敷液,由此仅使所述第一光学膜的所述一部分不溶于所述第一光学膜图案化步骤中使用的所述清洗液。
5.如权利要求3所述的有机EL显示器的制造方法,其特征在于:
在所述中间膜形成步骤中,仅在所述第一光学膜的所述一部分涂敷所述中间膜用涂敷液,由此仅使所述第一光学膜的所述一部分不溶于所述第一光学膜图案化步骤中使用的所述清洗液。
6.如权利要求1所述的有机EL显示器的制造方法,其特征在于:
所述光学部件形成步骤包括第一光学膜图案化步骤,所述第一光学膜图案化步骤在所述第一光学膜形成步骤之后所述中间膜形成步骤之前,使所述第一光学膜的一部分残留,除去所述第一光学膜的其余部分。
7.如权利要求6所述的有机EL显示器的制造方法,其特征在于:
在所述第一光学膜图案化步骤中,仅使所述第一光学膜的所述一部分不溶于溶解所述第一光学膜的清洗液,之后,用所述清洗液溶解所述第一光学膜的所述其余部分。
8.如权利要求6所述的有机EL显示器的制造方法,其特征在于:
在所述中间膜形成步骤中,以覆盖所述第一光学膜的主表面和所述第一光学膜的端面的方式形成所述中间膜。
9.如权利要求7所述的有机EL显示器的制造方法,其特征在于:
在所述中间膜形成步骤中,以覆盖所述第一光学膜的主表面和所述第一光学膜的端面的方式形成所述中间膜。
10.如权利要求1~9中任一项所述的有机EL显示器的制造方法,其特征在于:
所述光学部件形成步骤包括保护膜形成步骤,所述保护膜形成步骤在所述第二光学膜形成步骤之后,将不同于所述第二光学膜用涂敷液的保护膜用涂敷液涂敷在所述第二光学膜上并使其干燥,来形成保护所述第二光学膜的保护膜。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择





