[发明专利]具有包含TaC的涂层的碳材料及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201880028003.2 申请日: 2018-04-27
公开(公告)号: CN110582476B 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 曺東完 申请(专利权)人: 韩国东海炭素株式会社
主分类号: C23C16/32 分类号: C23C16/32;C04B41/87;C04B35/52;C04B38/00;C04B41/45;C04B41/50;C04B41/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋融冰
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 包含 tac 涂层 材料 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种具有包含TaC的涂层的碳材料,包括:

碳基材;及

在所述碳基材上形成的平均结晶粒大小为10μm-50μm的包含TaC的涂层;

其中,所述包含TaC的涂层的XRD分析的X线回折所发生的(111)面的回折峰值与(200)面的回折峰值的比为0.19以下;

其中,所述包含TaC的涂层的XRD的X线回折所发生的峰值中,(111)面的峰值最大。

2.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料,其中,所述包含TaC的涂层的表面硬度为15GPa以上。

3.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料,其中,所述包含TaC的涂层的XRD分析回折线的半宽度为0.15°以下。

4.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料,其中,所述包含TaC的涂层的表面硬度根据以下数学式1计算,

数学式1

表面硬度值(GPa)=-38A2+12A+14至17

A:XRD分析时包含TaC的涂层的(200)面的回折峰值/(111)面的回折峰值。

5.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料,其中,所述包含TaC的涂层的表面刮痕实验值为3.5N以上。

6.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料,其中,自所述碳基材表面深度为80μm-150μm的区域的TaC含量为15vol%至20vol%。

7.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料,其中,所述包含TaC的涂层的表面刮痕值根据以下数学式2计算,

数学式2

表面刮痕值(N)=自所述碳基材表面深度为80μm-150μm的区域的TaC含量(vol%)×(1.4至1.6)-19.5。

8.根据权利要求1所述的具有包含TaC的涂层的碳材料,其中,所述碳基材的热膨胀系数为7.0×10-6/K至7.5×10-6/K。

9.一种具有包含TaC的涂层的碳材料的制备方法,包括以下步骤:

准备碳基材;及

在所述碳基材上在1500℃以上温度利用CVD法形成包含TaC的涂层;

其中,所述包含TaC的涂层的XRD分析的X线回折所发生的(111)面的回折峰值与(200)面的回折峰值的比为0.19以下;

其中,所述包含TaC的涂层的XRD的X线回折所发生的峰值中,(111)面的峰值最大。

10.根据权利要求9所述的具有包含TaC的涂层的碳材料的制备方法,其中,所述形成包含TaC的涂层的步骤之后,进一步包括在1800℃以上温度进行热处理的步骤。

11.根据权利要求10所述的具有包含TaC的涂层的碳材料的制备方法,进一步包括,所述形成包含TaC的涂层的步骤与所述热处理的步骤之间进行冷却的步骤。

12.根据权利要求9所述的具有包含TaC的涂层的碳材料的制备方法,其中,所述形成包含TaC的涂层的步骤,根据所述具有包含TaC的涂层的碳材料的所需表面硬度值,包含TaC的涂层形成为具有满足以下数学式1的(111)面的回折峰值与(200)面的回折峰值之比,

数学式1

表面硬度值(GPa)=-38A2+12A+14至17

A:XRD分析时包含TaC的涂层的(200)面的回折峰值/(111)面的回折峰值。

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