[发明专利]具有带有IR反射层和高折射率氮化电介质层的低E涂层的涂覆制品在审
| 申请号: | 201880027321.7 | 申请日: | 2018-03-08 |
| 公开(公告)号: | CN110678428A | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
| 发明(设计)人: | 丁国文;张圭桢;丹尼尔·施魏格特;丹尼尔·李;斯科特·朱赫斯特;塞萨尔·克拉韦罗;明·勒;布伦特·博伊斯 | 申请(专利权)人: | 佳殿玻璃有限公司 |
| 主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李新红;王旭 |
| 地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 高折射率电介质 氮化物 无定形 低发射率涂层 热处理 低发射率 绝缘玻璃 涂覆制品 窗单元 反射层 单片 回火 可用 车窗 应用 | ||
本发明公开了一种涂覆制品,其包括低发射率(低E)涂层,所述低发射率涂层具有材料诸如银、金等的至少一个红外(IR)反射层,和为或包含Zr和Al的氮化物的多个高折射率电介质层。在某些示例性实施方案中,为或包含Zr和Al的氮化物的高折射率电介质层可以是无定形的或基本上无定形的,以便允许低E涂层更好地经受任选的热处理(HT),诸如热回火。在某些示例性实施方案中,低E涂层可用于应用诸如单片或绝缘玻璃(IG)窗单元、车窗等中。
本发明的示例性实施方案涉及一种涂覆制品,其包括低发射率(低E)涂层,该低发射率涂层具有材料诸如银、金等的至少一个红外(IR)反射层,和为或包含Zr和Al的氮化物的多个高折射率电介质层。在某些示例性实施方案中,为或包含Zr和Al的氮化物的高折射率电介质层可以是无定形的或基本上无定形的,以便允许低E涂层更好地经受任选的热处理(HT),诸如热回火。在某些示例性实施方案中,低E涂层可用于应用诸如单片或绝缘玻璃(IG)窗单元、车窗等中。
背景技术和发明内容
涂覆制品在本领域中已知用于窗应用,诸如绝缘玻璃(IG)窗单元、车窗、单片窗和/或类似应用。
常规的低E涂层公开于例如但不限于美国专利号6,576,349、9,212,417、9,297,197、7,390,572、7,153,579、和9,403,345中,这些专利的公开内容据此以引用方式并入本文。
某些低E涂层利用具有高折射率(n)的氧化钛(例如,TiO2)的至少一个透明电介质层,以用于抗反射和/或着色目的。参见例如美国专利号9,212,417、9,297,197、7,390,572、7,153,579、和9,403,345。虽然高折射率电介质材料TiO2是已知的并且用于低E涂层中,但TiO2具有非常低的溅射沉积速率并且在热处理时不是热稳定的,诸如在约650℃热回火8分钟,这是由于在刚沉积或后回火状态中膜结晶(或结晶度变化),这继而可在膜叠堆中的相邻层上引起热应力或晶格应力。此类应力还可引起叠堆的物理特性或材料特性的变化,并因此影响Ag层,这导致低E叠堆性能劣化。TiO2的低溅射沉积速率导致与制备包括此类层的低E涂层相关的显著高成本。
本发明的示例性实施方案通过提供涂覆制品来解决这些问题,该涂覆制品包括低发射率(低E)涂层,该低发射率涂层具有材料诸如银、金等的至少一个红外(IR)反射层,和为或包含Zr和Al的氮化物的多个高折射率电介质层。在某些示例性实施方案中,为或包含Zr和Al的氮化物的高折射率电介质层可以是无定形的或基本上无定形的,以便允许低E涂层更好地经受任选的热处理(HT),诸如热回火。在本发明的某些示例性实施方案中,低E涂层包括玻璃......ZrAlN/ZnO/Ag/接触层/ZnO/ZrAlN......罩面层的层序列,其中包含ZnO的层还可包含Al等。已发现,此类序列有利地提供增加的溅射沉积速率以及因此低成本、高透明度、良好的耐久性、良好的光学性能和良好的热性能。在某些示例性实施方案中,低E涂层可用于应用诸如单片或绝缘玻璃(IG)窗单元、车窗等中。
在本发明的一个示例性实施方案中,提供了涂覆制品,其包括由玻璃基底支撑的涂层,该涂层包括:玻璃基底上的包含Zr和Al的氮化物的第一高折射率电介质层,其中包含Zr和Al的氮化物的第一高折射率电介质层包含多于Al的Zr;玻璃基底上的包含氧化锌的第一电介质层,该第一电介质层位于所述包含Zr和Al的氮化物的第一高折射率层上方并且与其直接接触;玻璃基底上的第一红外(IR)反射层,该第一红外(IR)反射层位于所述包含氧化锌的第一电介质层上方并且与其直接接触;玻璃基底上的第一接触层,该第一接触层位于第一IR反射层上方并且与其直接接触;玻璃基底上的包含氧化锌的第二电介质层,该第二电介质层位于第一接触层上方并且与其直接接触;玻璃基底上的包含Zr和Al的氮化物的第二高折射率电介质层,该第二高折射率电介质层位于所述包含氧化锌的第二电介质层上方并且与其直接接触,其中包含Zr和Al的氮化物的第二高折射率电介质层包含多于Al的Zr;以及玻璃基底上的另一电介质层,该另一电介质层位于至少第一高折射率电介质层和第二高折射率电介质层以及第一IR反射层上方。
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