[发明专利]采用纹理化表面的测定

权利要求书

1.一种用于在测定样品时增强光信号的装置，包含：

第一板、第二板、间隔件和纹理化表面，其中：

i.所述第一板和第二板可相对于彼此移动成不同的构造；

ii.一个或两个板是柔性的；

iii.所述第二板在其内表面上具有纹理化结构，用于散射照射在所述内表面上的光；

iv.所述纹理化表面可以是但不限于凹凸不平、波状的粗糙表面；

v.所述纹理化表面为规则的或非规则的；

vi.所述纹理化表面的平均粗糙度范围优选为但不限于2μm-5μm；

vii.所述间隔件固定于所述第一板的内表面并具有预定的均匀高度；

viii.所述间隔件的优选高度大于所述纹理化表面的平均粗糙度并且小于100μm；

其中所述构造中的一个是开放构造，其中：两个板部分或完全分开，所述板之间的间距不由所述间隔件调节，并且所述样品沉积在所述板中的一个或两个上；

其中所述构造中的一个是闭合构造，所述闭合构造是在所述样品在所述开放构造中沉积之后配置的，并且在所述闭合构造中，所述沉积样品的至少一部分被所述两个板按压成连续层；

其中所述样品为液态。

2.一种用于增强光信号(Q卡)的样品处理装置，包含：

第一板、第二板、间隔件和纹理化表面，其中：

i.所述板可相对于彼此移动成不同的构造；

ii.一个或两个板是柔性的；

iii.所述第二板在其内表面上具有纹理化结构，用于散射照射在表面上的光；

iv.所述纹理化表面可以是但不限于凹凸不平、波状的粗糙表面；

v.所述纹理化表面可以是规则的或非规则的；

vi.所述纹理化表面的平均粗糙度范围优选为但不限于2μm～5μm；

vii.所述间隔件固定于所述第一板的内表面并具有预定的均匀高度；

viii.所述间隔件的优选高度大于所述纹理化表面的平均粗糙度并且小于100μm；

其中所述构造中的一个是开放构造，其中：两个板部分或完全分开，所述板之间的间距不由所述间隔件调节，并且所述样品沉积在所述板中的一个或两个上；

其中所述构造中的一个是闭合构造，所述闭合构造是在所述样品在所述开放构造中沉积之后配置的，并且在所述闭合构造中，所述沉积样品的至少一部分被所述两个板按压成连续层；

其中所述样品为液态。

3.一种用于增强光信号(Q卡)的样品处理装置，包含：

第一板、第二板、间隔件和纹理化表面，其中：

i.所述板可相对于彼此移动成不同的构造；

ii.一个或两个板是柔性的；

iii.所述第二板在其内表面上具有纹理化结构，用于散射照射在表面上的光；

iv.所述纹理化表面可以是但不限于凹凸不平、波状的粗糙表面；

v.所述纹理化表面可以是规则的或非规则的；

vi.所述纹理化表面的平均粗糙度范围优选为但不限于2μm～5μm；

vii.所述间隔件固定于所述第一板的内表面并具有预定的均匀高度；

viii.所述间隔件的优选高度大于所述纹理化表面的平均粗糙度并且小于100μm；

其中所述构造中的一个是开放构造，其中：两个板部分或完全分开，所述板之间的间距不由所述间隔件调节，并且所述样品沉积在所述板中的一个或两个上；

其中所述构造中的一个是闭合构造，所述闭合构造是在所述样品在所述开放构造中沉积之后配置的，并且在所述闭合构造中，所述沉积样品的至少一部分被所述两个板按压成连续层；

其中所述样品为液态。

如任一前述实施例所述的装置、系统或方法，所述纹理化表面由半透明白色材料制成，且透射率为10％～30％。