[发明专利]层压系统

权利要求书

1.层压系统，包括：

基板；以及

在所述基板上形成的具有2.0或更大的折射率和70nm或更小的厚度的高折射率层。

2.如权利要求1所述的层压系统，其中通过将具有比高折射率层的折射率低的折射率的低折射率层层压在所述高折射率层上、或重复地层压所述高折射率层和所述低折射率层来形成包括两层或更多层的多层涂层。

3.如权利要求2所述的层压系统，其中所述低折射率层具有1.8或更小的折射率以及70nm或更小的厚度。

4.如权利要求2所述的层压系统，其中所述高折射率层与所述低折射率层之间的折射率的差为0.2至1.5。

5.如权利要求1所述的层压系统，其中所述高折射率层具有6nm至180nm的光学厚度。

6.如权利要求2所述的层压系统，其中所述低折射率层具有3nm至100nm的光学厚度。

7.如权利要求1所述的层压系统，其中所述高折射率层包括选自氮化铝、氮化硅、氮化硅锆、氧化钛、氧化锌、氧化锡、氧化锆、氧化锌锡、氧化铬和氧化铌中的一种或多种材料。

8.如权利要求2所述的层压系统，其中所述低折射率层包括选自氟化镁、氧化铝、氧化硅、氮氧化硅、碳氧化硅和硅铝混合氧化物中的一种或多种材料。

9.如权利要求2所述的层压系统，其中所述多层涂层的最外层是高折射率层。

10.如权利要求1所述的层压系统，其中所述层压系统的表面反射比为8％至40％。

11.如权利要求1所述的层压系统，其中在所述层压系统中，由CIELAB颜色空间坐标表示的涂层表面的颜色的a*值对于10°的观察者角度为-5至+5，并且其b*值为-10至+10。

12.如权利要求1所述的层压系统，其中所述基板由玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或玻璃/PET形成。

13.如权利要求1所述的层压系统，其中通过选自溅射、蒸发、离子镀和化学气相沉积(CVD)中的一种或多种方法形成所述层压系统。