[发明专利]封闭的台面型拉曼光谱测定法装置

权利要求书

1.一种台面型分析装置，包括：

封闭件，具有盖子和本体，该盖子可相对于该本体在打开位置与关闭位置之间移动，其中，当该盖子是在该关闭位置时，该封闭件封闭下列各者：

探针，安装在该封闭件的该本体上，以促进实施样本的光谱法；及

样本呈现组件，用以接收用于该光谱法的该实施的该样本；

处理器；以及

内存，储存可执行指令，该可执行指令当由该处理器执行时，导致该台面型分析装置进行下列动作：

接收该封闭件的该盖子在该关闭位置的指示；

决定规则是满足的，其中，该规则关于基于该封闭件的该盖子在该关闭位置的该指示的该封闭件的可操作组构；以及

响应决定该规则是满足时，导致光学能量的发射，以经由该探针实施该样本的该光谱法。

2.如权利要求1所述的台面型分析装置，其中，该可执行指令当由该处理器执行时还导致该台面型分析装置决定包括该规则和第二规则的规则群组是同时地满足，其中，实施该光谱法以响应决定该规则群组是同时地满足。

3.如权利要求2所述的台面型分析装置，其中，该规则群组的该第二规则是关于决定该台面型分析装置的操作者已经登入用户帐户。

4.如权利要求1所述的台面型分析装置，其中，该样本呈现组件包括样本板，以接收和支撑该封闭件内的该样本。

5.如权利要求4所述的台面型分析装置，其中：

板保留区域是界定在该封闭件的该本体中；

该探针是安装在该板保留区域内；

该样本板是可移动地设置在该板保留区域中，并且具有至少下列一者：

倾斜表面，从该样本板的周围处的最高点倾斜至当该样本板是设置在该板保留区域内时邻近该探针的位置处的最低点；或

平坦表面，具有界定在该样本板的该平坦表面中的凹陷区域，当该样本板是设置在该板保留区域中时，该凹陷区域的一部分位在邻近该探针的位置处。

6.如权利要求5所述的台面型分析装置，其中：

开孔是界定在(i)该倾斜表面的该最低点或(ii)该凹陷区域的该部分处的该样本板中；以及

该探针是直立地朝向、指向向上方向、以及设置在该开孔内，以于该样本板是设置在该板保留区域中时并且于该样本被支撑在该开孔上方的该样本板的顶侧上时，从该样本下方查询该样本。

7.如权利要求6所述的台面型分析装置，其中，该样本板具有该倾斜表面，并且该探针的顶端于该样本板是设置在该板保留区域中时在该倾斜表面的该最低点之上延伸。

8.如权利要求5所述的台面型分析装置，其中，该样本板具有该平坦表面，而该样本是在关闭该封闭件的该盖子前被放置在该凹陷区域中。

9.如权利要求5所述的台面型分析装置，其中，该样本板是第一样本板，该第一样本板可与不同于该第一样本板的第二样本板交换。

10.如权利要求5所述的台面型分析装置，其中，该板保留区域具有倾斜表面，该倾斜表面从该板保留区域的周围处的最高点倾斜至邻近该探针的最低点。

11.一种台面型分析装置，包括：

封闭件，具有盖子和本体，该盖子可相对于该本体在打开位置与关闭位置之间移动，其中，当该盖子是在该关闭位置时，该封闭件封闭下列各者：

探针，安装在该封闭件的该本体上，以输送光学能量作为实施样本的光谱法的部件；及

样本呈现组件，用以接收该样本；以及

顺应性组件，其(i)经由该探针致能该光学能量的释放以响应决定该封闭件的该盖子是在该关闭位置、以及(ii)经由该探针失能该光学能量的释放以响应决定该封闭件的该盖子不在该关闭位置。