[发明专利]抗菌生物医学植入物以及相关的材料、装置和方法在审
申请号: | 201880021458.1 | 申请日: | 2018-01-23 |
公开(公告)号: | CN110461378A | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | B.J.麦肯泰尔;R.拉克什米纳拉亚南;K.戴维斯;N.格里马尔迪;G.佩佐蒂 | 申请(专利权)人: | 辛特科技公司 |
主分类号: | A61L27/10 | 分类号: | A61L27/10;A61L27/44;A61L27/50;A61L27/54;C04B35/58;C04B35/597;C04B35/599 |
代理公司: | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李进;周齐宏<国际申请>=PCT/US2 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 生物医学植入物 表面粗糙化处理 氮化硅陶瓷材料 表面粗糙度 粗糙度轮廓 抗菌特性 涂层施加 植入物 算术 施加 制造 | ||
1.一种用于改善生物医学植入物的抗菌特性的方法,所述方法包括以下步骤:
提供生物医学植入物(200);和
向所述生物医学植入物(200)加载约10%至约20%的粉末,其中所述粉末包含β-氮化硅材料。
2.如权利要求1所述的方法,其还包括:
将所述生物医学植入物(200)的至少一部分的表面粗糙度增加至具有至少约500nm Ra的算术平均值的粗糙度轮廓以改善所述生物医学植入物的抗菌特性,所述表面粗糙度的增加是通过微机械加工、研磨、抛光、激光蚀刻、激光纹理化、喷砂或其他喷磨、化学蚀刻、热蚀刻和等离子蚀刻中的至少一种完成。
3.如权利要求1所述的方法,其中所述氮化硅材料选自由以下组成的组:β-Si3N4、β-SiYAlON及其组合。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述生物医学植入物(200)包括椎间脊柱植入物。
5.如权利要求1所述的方法,其中所述生物医学植入物(200)包含聚醚醚酮(PEEK)和钛中的至少一种。
6.如权利要求1所述的方法,其中所述生物医学植入物(200)包含PEEK和15%β-Si3N4粉末。
7.如权利要求1所述的方法,其中所述生物医学植入物(200)包含PEEK和15%β-SiYAlON粉末。
8.如权利要求2所述的方法,其还包括:
将氮化硅涂层(220)施加到所述生物医学植入物(200)。
9.如权利要求8所述的方法,其中增加所述生物医学植入物(200)的至少一部分的表面粗糙度的所述步骤是在将涂层(220)施加到所述生物医学植入物(200)的所述步骤之后进行,并且其中增加所述生物医学植入物(200)的至少一部分的表面粗糙度的所述步骤包括增加所述涂层(220)的至少一部分的表面粗糙度。
10.如权利要求2所述的方法,其中将所述生物医学植入物(200)的至少一部分的表面粗糙度增加至具有至少约1,250nm Ra的算术平均值的粗糙度轮廓的步骤。
11.如权利要求2所述的方法,其中将所述生物医学植入物(200)的至少一部分的表面粗糙度增加至具有在约2,000nm Ra与约5,000nm Ra之间的算术平均值的粗糙度轮廓的步骤。
12.一种具有改善的抗菌特性的生物医学植入物(200/300),其包括:
聚合物或金属基底材料;和
约10%至约20%的粉末,其中所述粉末包含β-氮化硅材料。
13.如权利要求12所述的生物医学植入物(200),其中所述生物医学植入物(200)的至少一部分具有算术平均值为至少约500nm Ra的增加的表面粗糙度轮廓,所述增加的表面粗糙度轮廓是通过微机械加工、研磨、抛光、激光蚀刻、激光纹理化、喷砂或其他喷磨、化学蚀刻、热蚀刻和等离子蚀刻中的至少一种产生的。
14.如权利要求12所述的生物医学植入物(200),其中所述氮化硅材料选自由以下组成的组:β-Si3N4、β-SiYAlON及其组合。
15.如权利要求12所述的生物医学植入物(200),其中所述基底材料包含聚醚醚酮(PEEK)和钛中的至少一种。
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