[发明专利]对光刻系统进行建模或执行系统的预测性维护的方法和相关联的光刻系统

说明书

一种用于确定多个参数时间序列中的事件之间的因果关系的方法，该方法包括：标识与参数偏移事件相关联的第一事件，并且标识与故障事件相关联的第二事件，其中存在包括所述第一事件和所述第二事件的多个事件；确定针对成对的所述事件的传递熵的值，以针对每个所述成对的事件建立因果关系；使用所确定的传递熵的值和所标识的因果关系来确定过程网络，其中所述事件中的每个事件是所述过程网络中的节点，节点之间的边缘取决于传递熵的值；标识所述多个事件和所述因果关系内的有向循环；对有向循环进行分类；以及对与经分类的有向循环具有因果关系的一个或多个事件进行分类。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年3月23日提交的EP申请17162628.6的优先权，其通过引用整体并入本文。

技术领域

本发明一般地涉及系统的预测性维护并且涉及对这样的系统进行建模的方法。更具体地，本发明涉及用于对光刻系统和技术的性能进行测量、检查、表征、模拟和/或评估的系统和技术。

背景技术

光刻设备是将期望的图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可用于例如制造集成电路(IC)。在那种情况下，可以使用图案化装置(可替代地被称为掩模或掩模版)来生成在IC的单个层上要形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或若干管芯中的一部分)上。图案的转移通常经由成像到衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。

在光刻工艺中，经常期望对所创建的结构进行测量，例如用于工艺控制和验证。用于进行这样的测量的各种工具是已知的，包括通常用于测量临界尺寸(CD)的扫描电子显微镜，以及用于测量套刻(器件中两个层的对准精度)的专用工具。最近，已开发了各种形式的散射仪以用于光刻领域。这些设备将辐射束引导到目标上并且测量经散射的辐射的一个或多个性质(例如，单个反射角处的根据波长的强度；一个或多个波长处的根据反射角的强度；或者根据反射角的偏振)，以获得衍射“光谱”，根据衍射“光谱”可以确定目标的感兴趣的性质。

期望对光刻系统或设备(或系统整体)的操作进行建模。这可以包括监视光刻系统的参数值并且使用系统操作的模型基于这些参数值来预测未来的性能或事件。本文的公开内容描述了与光刻系统或系统整体的这种预测性维护有关的方法。

发明内容

在第一方面，本发明提供了用于确定与工业过程相关联的多个参数时间序列中的事件之间的因果关系的方法，该方法包括：至少标识与参数偏移事件相关联的第一事件并且至少标识与故障事件相关联的第二事件，其中存在包括所述第一事件和所述第二事件的多个事件；确定针对成对的所述事件的传递熵的值，以针对每个所述成对的事件建立因果关系；使用所确定的传递熵的值和所标识的因果关系来确定过程网络，其中所述事件中的每个事件是所述过程网络中的节点，节点之间的边缘取决于所确定的传递熵的值；标识所述多个事件和所述因果关系内的一个或多个有向循环；基于标称系统行为对有向循环进行分类；以及基于循环分类，对与经分类的有向循环具有因果关系的一个或多个事件进行分类。

在第二方面，本发明提供光刻设备，该光刻设备包括：照射光学系统，被布置为照射图案；以及投影光学系统，被布置为将图案的图像投影到衬底上；其中光刻设备被布置为执行第一方面的方法，以对由所述光刻设备执行的所述光刻过程的操作进行建模。

本发明还提供了计算机程序产品，该计算机程序产品包括用于使得处理器执行第一方面的方法的机器可读指令。

下面参考附图详细描述本发明的其他特征和优点以及本发明的各种实施例的结构和操作。应注意，本发明不限于本文所描述的具体实施例。仅出于说明性目的而在此呈现这些实施例。基于本文包含的教导，附加实施例对于相关领域的技术人员将是显而易见的。

附图说明