[发明专利]光束控制部件、发光装置及面光源装置在审
| 申请号: | 201880019420.0 | 申请日: | 2018-03-20 |
| 公开(公告)号: | CN110431480A | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
| 发明(设计)人: | 山田恭平 | 申请(专利权)人: | 恩普乐股份有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 温剑;陈英俊 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 入射面 入射 光束控制部件 反射面 反射 出射面 背面 配置 面光源装置 彼此相对 发光装置 光反射 平行 延伸 | ||
1.一种光束控制部件,对从发光元件射出的光的配光进行控制,其具有:
背面,在由彼此正交的X轴、Y轴及Z轴构成的XYZ坐标系中,与XY平面平行,且在Y轴方向上延伸;
第一入射面,是配置于所述背面侧的凹部的内表面的一部分,使从所述发光元件射出的光的一部分入射;
第二入射面,是所述凹部的内表面的另一部分,使从所述发光元件射出的光的另一部分入射;
第三入射面,配置于所述第一入射面与所述第二入射面之间,使从所述发光元件射出的光的其他另一部分入射,且使由所述第一入射面入射的光反射;
第一反射面,在Z轴方向上配置于与所述背面相反的一侧即正面侧,使由所述第一入射面入射的光、由所述第一入射面入射并由所述第三入射面反射后的光、和由所述第三入射面入射的光向所述Y轴方向的一方反射;
第二反射面,配置于所述正面侧,使由所述第二入射面入射的光向所述Y轴方向的与所述一方相反的一侧的另一方反射;以及
两个出射面,隔着所述第一反射面和所述第二反射面彼此相对地配置,使由所述第一反射面或所述第二反射面反射后的光分别向外部射出。
2.如权利要求1所述的光束控制部件,其中,
所述第三入射面位于所述XYZ坐标系的XZ平面上。
3.如权利要求1所述的光束控制部件,其中,
所述第一入射面与所述XYZ坐标系的XY平面大致平行。
4.如权利要求1所述的光束控制部件,其中,
与所述第一入射面对应的所述凹部的最大深度是与所述第二入射面对应的所述凹部的最大深度的0.1~0.5倍。
5.一种发光装置,其具有:
发光元件,其光轴配置为与所述Z轴平行;以及
权利要求1~4中任意一项所述的光束控制部件,所述第一入射面和所述第二入射面配置为与所述发光元件相对。
6.一种面光源装置,其具有:
多个权利要求5所述的发光装置;以及
光漫射板,该光漫射板使从所述发光装置射出的光漫射并透射。
7.如权利要求6所述的面光源装置,其中,
多个所述发光装置沿着所述X轴配置为列状,
由多个所述发光装置构成的列与所述光漫射板的相对的一对边平行,
在俯视所述面光源装置时,由多个所述发光装置构成的列与所述光漫射板的所述相对的一对边中的一者之间的距离,比由多个所述发光装置构成的列与所述光漫射板的所述相对的一对边中的另一者之间的距离长,并且
多个所述发光装置配置为,所述光束控制部件的所述第一入射面比所述第二入射面更接近所述光漫射板的所述相对的一对边中的一者。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩普乐股份有限公司,未经恩普乐股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880019420.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:背光源及背光源的制造方法
- 下一篇:光设备





