[发明专利]包括填充流体囊腔的可调节足部支撑系统有效
申请号: | 201880019094.3 | 申请日: | 2018-02-26 |
公开(公告)号: | CN110430777B | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | O·亨里乔特;蒂莫西·P·霍普金森;E·朗文;奥斯丁·奥兰多;立维·J·巴顿 | 申请(专利权)人: | 耐克创新有限合伙公司 |
主分类号: | A43B13/18 | 分类号: | A43B13/18;A43B13/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王小京 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 填充 流体 调节 足部 支撑 系统 | ||
1.一种不透流体的足部支撑系统,其包括:
足部支撑囊,所述足部支撑囊用于支撑穿着者足部的至少一部分;
泵;
第一流体输送管线,所述第一流体输送管线在所述足部支撑囊与所述泵之间延伸;
第一阀,所述第一阀允许经由所述第一流体输送管线从所述足部支撑囊到所述泵进行流体传送,但不允许经由所述第一流体输送管线从所述泵到所述足部支撑囊进行流体传送;
流体储器;
第二流体输送管线,所述第二流体输送管线在所述泵与所述流体储器之间延伸;
第二阀,所述第二阀允许经由所述第二流体输送管线从所述泵到所述流体储器进行流体传送,但不允许经由所述第二流体输送管线从所述流体储器到所述泵进行流体传送;
备用储器;
第三流体输送管线,所述第三流体输送管线在所述备用储器与所述泵、所述流体储器或所述第二流体输送管线中的至少一者之间延伸;
第一流体流动控制结构,所述第一流体流动控制结构用于使所述第三流体输送管线在以下各项之间改变:(a)打开条件,在所述打开条件中,流体在所述备用储器与所述泵、所述流体储器或所述第二流体输送管线中的至少一者之间输送;和(b)关闭条件,在所述关闭条件中,流体不在所述备用储器与所述泵、所述流体储器或所述第二流体输送管线中的任一者之间输送;
第四流体输送管线,所述第四流体输送管线在所述流体储器与所述足部支撑囊之间延伸;和
第二流体流动控制结构,所述第二流体流动控制结构用于使所述第四流体输送管线在以下各项之间改变:(a)打开条件,在所述打开条件中,流体在所述流体储器与所述足部支撑囊之间输送;和(b)关闭条件,在所述关闭条件中,流体不在所述流体储器与所述足部支撑囊之间输送。
2.一种不透流体的足部支撑系统,其包括:
足部支撑囊,所述足部支撑囊用于支撑穿着者足部的至少一部分;
泵;
第一流体输送管线,所述第一流体输送管线在所述足部支撑囊与所述泵之间延伸;
流体储器;
第二流体输送管线,所述第二流体输送管线在所述泵与所述流体储器之间延伸;
备用储器;
第三流体输送管线,所述第三流体输送管线在所述备用储器与所述泵、所述流体储器或所述第二流体输送管线中的至少一者之间延伸;
第四流体输送管线,所述第四流体输送管线在所述流体储器与所述足部支撑囊之间延伸;和
流体压力调节系统,所述流体压力调节系统用于使流体在所述足部支撑囊与所述流体储器之间移动,且用于使所述足部支撑囊中的流体压力在第一压力条件、相比所述第一压力条件处于更低压力的第二压力条件、以及相比所述第二压力条件处于更低压力的第三压力条件之间改变。
3.根据权利要求2所述的不透流体的足部支撑系统,其中在所述第一压力条件下,所述流体压力调节系统被构造和布置成:(a)使所述第三流体输送管线维持在打开条件下以允许所述泵与所述备用储器之间的流体输送,或使所述第三流体输送管线维持在关闭条件下以防止所述备用储器与所述泵、所述流体储器或所述第二流体输送管线中的每一者之间的流体输送;和(b)使所述第四流体输送管线维持在打开条件下以允许所述流体储器与所述足部支撑囊之间的流体输送。
4.根据权利要求3所述的不透流体的足部支撑系统,其中在所述第一压力条件下达到稳态之后,所述足部支撑囊、所述流体储器和所述备用储器中的流体压力基本相同。
5.根据权利要求2所述的不透流体的足部支撑系统,其中在所述第二压力条件下,所述流体压力调节系统被构造和布置成:(a)使所述第三流体输送管线维持在打开条件下以允许所述泵与所述备用储器之间的流体输送;(b)使所述第四流体输送管线维持在关闭条件下以防止所述流体储器与所述足部支撑囊之间的流体输送;(c)允许经由所述第一流体输送管线从所述足部支撑囊到所述泵进行流体输送,但防止经由所述第一流体输送管线从所述泵到所述足部支撑囊进行流体输送;和(d)允许经由所述第二流体输送管线从所述泵到所述流体储器进行流体输送,但防止经由所述第二流体输送管线从所述流体储器到所述泵进行流体输送。
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