[发明专利]用于以温度补偿的方式光学检测流体的氧含量的设备

权利要求书

1.一种面状的层构件装置(60)，所述层构件装置用于以温度补偿的方式、光学地检测流体的氧含量，其中所述面状的层构件装置(60)包括：

-包含发光物质的反应层体(62)，所述反应层体的发光物质能够通过用第一波长的第一电磁辐射(E1)辐照来激发，以放射不同于所述第一波长的第二波长的第二电磁辐射(E2)，其中所述发光物质的被激发的放射特性与接触所述发光物质的流体中的氧分压相关，和

-发射红外辐射(I)的温度-检测层体(64)，

其中所述反应层体(62)和所述温度-检测层体(64)彼此独立地构成，其中所述温度-检测层体(64)没有发光物质，

其特征在于，所述反应层体(62)和所述温度-检测层体(64)分别具有流体接触侧(62c，64c)和与所述流体接触侧(62c，64c)相反的检测侧(62d，64d)，其中在所述流体接触侧上相应的所述层体(62，64)构成用于与流体接触，所述检测侧构成用于与辐射探测器(86，90)共同作用。

2.根据权利要求1所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述反应层体(62)至少部段地关于层材料和/或层序列和/或层厚度具有与所述温度-检测层体(64)相比不同的层构造。

3.根据权利要求1所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述反应层体(62)完全地关于层材料和/或层序列和/或层厚度具有与所述温度-检测层体(64)相比不同的层构造。

4.根据权利要求1所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述温度-检测层体(64)具有金属薄膜(64a)。

5.根据权利要求4所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述金属薄膜(64a)是铝薄膜。

6.根据权利要求2或3所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述温度-检测层体(64)具有金属薄膜(64a)。

7.根据权利要求6所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述金属薄膜(64a)是铝薄膜。

8.根据权利要求1所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述温度-检测层体(64)具有金属薄膜(64a)并且所述金属薄膜(64a)的外面形成所述温度-检测层体(64)的所述流体接触侧(64c)。

9.根据权利要求1所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述温度-检测层体(64)具有基底层，其中所述温度-检测层体(64)在其检测侧(64d)上具有间接或者直接由所述基底层承载的发射层(64b)，所述发射层具有不小于0.75的发射率。

10.根据权利要求9所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述温度-检测层体(64)具有金属薄膜(64a)作为基底层。

11.根据权利要求10所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述金属薄膜(64a)是铝薄膜。

12.根据权利要求9所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述发射层(64b)是包含彩色颜料的层。

13.根据权利要求12所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述彩色颜料是黑色的彩色颜料。

14.根据权利要求12所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述发射层(64b)是含碳的层。

15.根据权利要求12所述的层构件装置(60)，

其特征在于，所述发射层(64b)是含碳的漆。