[发明专利]顺式,顺式-1,2,4-环己烷三羧酸晶体的制造方法有效
申请号: | 201880018015.7 | 申请日: | 2018-03-19 |
公开(公告)号: | CN110402243B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 斋藤伸弥;熊野达之 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C07C51/43 | 分类号: | C07C51/43;C07C61/08 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 顺式 环己烷 羧酸 晶体 制造 方法 | ||
本发明的目的在于,提供:可以得到高纯度的顺式,顺式‑1,2,4‑环己烷三羧酸晶体的顺式,顺式‑1,2,4‑环己烷三羧酸晶体的制造方法。本发明的顺式,顺式‑1,2,4‑环己烷三羧酸晶体的制造方法具备下述工序。工序1:测定含有顺式,顺式‑1,2,4‑环己烷三羧酸的原料水溶液中的顺式,顺式‑1,2,4‑环己烷三羧酸相对于反式,反式‑1,2,4‑环己烷三羧酸的质量比(顺式/反式比),形成顺式/反式比为10以上的析晶用原料水溶液的工序;工序2:将工序1中得到的析晶用原料水溶液析晶的工序。
技术领域
本发明涉及顺式,顺式-1,2,4-环己烷三羧酸晶体的制造方法。
背景技术
顺式,顺式-1,2,4-环己烷三羧酸酐具有游离的羧基,从能赋予源自其的酸性能、而且能赋予源自脂肪族环的耐热性·耐气候性的方面出发,作为光学材料、电子材料用途的树脂原料而被利用,例如推进了作为阻焊剂、聚酰胺酰亚胺系树脂的原料的利用。
顺式,顺式-1,2,4-环己烷三羧酸酐通过使顺式,顺式-1,2,4-环己烷三羧酸在乙酸和乙酸酐中进行脱水反应而得到。
另外,作为1,2,4-环己烷三羧酸酐的通常的制造方法,可以举出如下方法:对偏苯三酸进行核加氢形成1,2,4-环己烷三羧酸,将其通过析晶进行纯化后,进行脱水反应。
关于将偏苯三酸进行核加氢、并将所得1,2,4-环己烷三羧酸通过析晶进行纯化的工序,例如,专利文献1中公开了如下内容:在水与四氢呋喃(THF)的混合溶剂中,使用过渡金属催化剂进行核加氢,将所得溶液浓缩和干燥,从而得到带黄色的白色晶体。另外,专利文献1中记载了如下内容:使该晶体在THF与乙腈的混合溶液中再次溶解,接着,进行浓缩和冷却,并进行析晶,得到顺式,顺式-1,2,4-环己烷三羧酸。
专利文献2中记载了:始终在水中进行偏苯三酸的核加氢工序和析晶工序的1,2,4-环己烷三羧酸的制造方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:美国专利第5412108号说明书
专利文献2:日本特开2009-57385号公报
发明内容
专利文献1中记载的方法中,作为溶剂使用的THF与空气或氧接触时,生成爆发性的过氧化物,因此,不适于工业工艺上的使用。另外,专利文献1中,从核加氢工序移至析晶工序时,需要进行从核加氢反应溶剂向析晶溶剂的溶剂置换,工序数增加,因此,作为工业工艺不优选。
进一步,专利文献1中,氢化反应时和析晶时浓缩后的(溶剂/投入原料)的质量比高,需要大量的溶剂,因此,存在效率差的问题。
专利文献2中,使用水代替专利文献1中使用的THF和乙腈作为溶剂,另外,无需溶剂置换,与专利文献1中记载的方法相比,工序数少,作为工业工艺也是有利的。
另外,氢化反应时的(溶剂/投入原料)的质量比、和析晶时浓缩后的(溶剂/投入原料)的质量比均低于专利文献1,因此,溶剂用量少,是有效的。
然而,对于由偏苯三酸的核加氢反应液得到高纯度的顺式,顺式-1,2,4-环己烷三羧酸晶体,没有进行研究。
本发明的目的在于,提供:能得到高纯度的顺式,顺式-1,2,4-环己烷三羧酸晶体的顺式,顺式-1,2,4-环己烷三羧酸晶体的制造方法。
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