[发明专利]含有新型多触发单体的抗蚀剂组合物和方法在审

专利信息
申请号: 201880017317.2 申请日: 2018-08-27
公开(公告)号: CN110959137A 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: A·P·G·罗宾森;A·麦克兰德;A·弗罗姆霍尔德;杨东旭;J·L·罗斯;D·尤尔 申请(专利权)人: A·P·G·罗宾森;A·麦克兰德;A·弗罗姆霍尔德;杨东旭;J·L·罗斯;D·尤尔
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004
代理公司: 余姚德盛专利代理事务所(普通合伙) 33239 代理人: 周积德
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 含有 新型 触发 单体 抗蚀剂 组合 方法
【权利要求书】:

1.一种多触发负性光致抗蚀剂组合物,包含:

a.至少一种聚合物、低聚物或单体,均包含两种或更多种可交联官能团,其中基本上所有官能团都与酸不稳定性保护基团连接,

b.至少一种酸活化的交联剂,和

c.光酸产生剂或热酸产生剂中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物,其中所述单体是一种或多种具有以下结构的化合物:

其中X和Y相同或不同,并且均包含可交联官能团,其中酸不稳定性保护基团与所述官能团连接,其中R1、R2、R3和R4相同或不同,并且是具有或不具有一个或多个被取代到链中的杂原子的1-16个碳原子的支链或无支链、取代或未取代、饱和或不饱和的二价烷基链,当R1、R2、R3和R4中的任何2个或更多个彼此共价连接时,取代或未取代的芳族基团、杂芳族基团、稠合芳族或稠合杂芳族基团、芳烷基、脂环族基团、或者环状、双环或多环状环形成。

3.根据权利要求2所述的抗蚀剂组合物,其中包含具有结构I-IV的单体混合物。

4.根据权利要求3所述的抗蚀剂组合物,其中X或Y中的至少一个包括

-(烷基)j-(芳基)k-(O)p-(COO)q-ALPG

其中j、k、p和q取下表中的值:

-烷基--芳基--O--COO-
jkpq
1111
1101
1110
1001
1010
0111
0101
0110
0001

其中烷基是具有或不具有一个或多个被取代到链中的杂原子的1-16个碳原子的支链或无支链、取代或未取代、饱和或不饱和的二价烷基链,芳基是取代或未取代的芳族基团、杂芳族基团、或者稠合芳族或稠合杂芳族基团,并且其中ALPG是离去基团。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于A·P·G·罗宾森;A·麦克兰德;A·弗罗姆霍尔德;杨东旭;J·L·罗斯;D·尤尔,未经A·P·G·罗宾森;A·麦克兰德;A·弗罗姆霍尔德;杨东旭;J·L·罗斯;D·尤尔许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880017317.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top