[发明专利]含有新型多触发单体的抗蚀剂组合物和方法在审
申请号: | 201880017317.2 | 申请日: | 2018-08-27 |
公开(公告)号: | CN110959137A | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | A·P·G·罗宾森;A·麦克兰德;A·弗罗姆霍尔德;杨东旭;J·L·罗斯;D·尤尔 | 申请(专利权)人: | A·P·G·罗宾森;A·麦克兰德;A·弗罗姆霍尔德;杨东旭;J·L·罗斯;D·尤尔 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 余姚德盛专利代理事务所(普通合伙) 33239 | 代理人: | 周积德 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含有 新型 触发 单体 抗蚀剂 组合 方法 | ||
1.一种多触发负性光致抗蚀剂组合物,包含:
a.至少一种聚合物、低聚物或单体,均包含两种或更多种可交联官能团,其中基本上所有官能团都与酸不稳定性保护基团连接,
b.至少一种酸活化的交联剂,和
c.光酸产生剂或热酸产生剂中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物,其中所述单体是一种或多种具有以下结构的化合物:
其中X和Y相同或不同,并且均包含可交联官能团,其中酸不稳定性保护基团与所述官能团连接,其中R1、R2、R3和R4相同或不同,并且是具有或不具有一个或多个被取代到链中的杂原子的1-16个碳原子的支链或无支链、取代或未取代、饱和或不饱和的二价烷基链,当R1、R2、R3和R4中的任何2个或更多个彼此共价连接时,取代或未取代的芳族基团、杂芳族基团、稠合芳族或稠合杂芳族基团、芳烷基、脂环族基团、或者环状、双环或多环状环形成。
3.根据权利要求2所述的抗蚀剂组合物,其中包含具有结构I-IV的单体混合物。
4.根据权利要求3所述的抗蚀剂组合物,其中X或Y中的至少一个包括
-(烷基)j-(芳基)k-(O)p-(COO)q-ALPG
其中j、k、p和q取下表中的值:
-烷基- -芳基- -O- -COO- j k p q 1 1 1 1 1 1 0 1 1 1 1 0 1 0 0 1 1 0 1 0 0 1 1 1 0 1 0 1 0 1 1 0 0 0 0 1
其中烷基是具有或不具有一个或多个被取代到链中的杂原子的1-16个碳原子的支链或无支链、取代或未取代、饱和或不饱和的二价烷基链,芳基是取代或未取代的芳族基团、杂芳族基团、或者稠合芳族或稠合杂芳族基团,并且其中ALPG是离去基团。
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