[发明专利]制备异氰酸酯的方法

说明书

制备异氰酸酯产物的方法包括向光气化混合器提供光气入口物料流和含胺溶剂入口物料流，所述含胺溶剂入口物料流包括一种或多种胺和一种或多种惰性溶剂，和在稳态操作期间，通过在至少分成第一时间段T1和所述第一时间段T1之后的第二时间段T2的时间段内降低所述光气化混合器中的压降来补偿结垢压降的增加。在所述第二时间段T2期间，所述含胺溶剂物料流中的所述一种或多种胺的胺浓度高于在所述第一时间段T1期间的胺浓度，并且在所述第二时间段T2期间，所述光气化混合器中的光气与胺比率值高于在所述第一时间段T1期间的光气与胺比率值。

技术领域

实施例涉及制备异氰酸酯的方法和使用所述制备异氰酸酯的方法的系统。

背景技术

异氰酸酯可通过使胺与光气在惰性溶剂中反应来制备。举例来说，通过使光气与胺在溶剂中直接接触，可将胺转化为异氰酸酯。当在连续操作期间制备这类异氰酸酯时，已知可能发生逐渐结垢。系统结垢可能对生产速率和/或产物质量产生不利影响。因此，寻求在不强制显著降低生产速率、增加能量消耗和/或改变产物质量的情况下补偿系统结垢的方法。

发明内容

实施例可通过提供制备异氰酸酯产物的方法来实现，所述方法包括向光气化混合器提供光气入口物料流和含胺溶剂入口物料流，所述含胺溶剂入口物料流包括一种或多种胺和一种或多种惰性溶剂，和在稳态操作期间，通过在至少分成第一时间段T₁和所述第一时间段T₁之后的第二时间段T₂的时间段内降低所述光气化混合器中的压降来补偿结垢压降的增加。在第二时间段T₂期间，含胺溶剂物料流中的一种或多种胺的胺浓度高于在第一时间段T₁期间的胺浓度，并且在第二时间段T₂期间，光气化混合器中的光气与胺比率值高于在第一时间段T₁期间的光气与胺比率值。

附图说明

通过参考附图详细描述本发明的示例性实施例，实施例的特征对于本领域普通技术人员将变得更加明显，在所述附图中：

图1说明生产异氰酸酯的示例性系统；

图2说明可用于生产异氰酸酯的示例性系统中的示例性光气化混合器；

图3说明示出对于变化的PMDA浓度和PAR值的质量值的实例的图形表示，并且水平双线表示维持相对恒定质量值的所期望操作条件改变；和

图4说明示出当操作系统以维持相对恒定的质量值时的光气化混合器压降(胺侧)和PAR值变化的实例的图形表示。

具体实施方式

实施例涉及可用于制备异氰酸酯的方法中的光气化方法(如液相方法和/或气相方法)和利用光气化方法的系统。方法和系统使得所得异氰酸酯产物能够具有指定产物质量值(例如，预定的杂质水平范围)，并且避免显著强制降低异氰酸酯产物的生产速率。含胺溶剂入口物料流的组成、含胺溶剂入口物料流的流速和/或光气入口物料流的流速在生产异氰酸酯的系统的过程和操作中为可调节的。

在制备这类异氰酸酯的连续方法的稳态操作期间，可通过使含胺溶剂物料流上游的控制阀中的压降降到最低并且增加光气化混合器中的压降来使可用于混合含胺溶剂物料流和光气物料流的能量增至最大。这可导致含胺溶剂物料流的体积流速范围的减小(例如，基于结垢压降的增加)，这可通过在至少分成第一时段T1和第一时间段T1之后的第二时段T2的时间段内变化胺浓度和光气与胺比率来补偿。使光气化混合器中的压降增至最大可允许方法的整体性能改进，这可用于改进质量或增加生产速率或降低能量成本。举例来说，可维持生产速率和产物质量值两者，例如，通过增加光气物料流的流速同时减少含胺溶剂入口物料流中的溶剂流量。