[发明专利]确定随机行为对叠加计量数据的影响有效
申请号: | 201880014361.8 | 申请日: | 2018-02-27 |
公开(公告)号: | CN110383442B | 公开(公告)日: | 2023-10-10 |
发明(设计)人: | E·古列维奇;M·E·阿德尔;R·格伦黑德;Y·弗莱;V·莱温斯基;D·克莱因;S·阿哈龙 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘丽楠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 确定 随机 行为 叠加 计量 数据 影响 | ||
1.一种方法,其包括:
从工艺相关线边缘粗糙度LER的参数导出遵守给定测量不确定性规范所需的目标元件的最小尺寸的估计,及
设计计量目标以具有符合所述经估计的最小尺寸的目标设计参数,
其中所述导出及所述设计中的至少一者是由至少一个计算机处理器执行。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述计量目标具有通过所述目标设计参数特性化的周期性结构。
3.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括估计归因于所述LER的所述经设计目标的叠加测量的不确定性误差。
4.一种计算机程序产品,其包括具有与其一起体现的计算机可读程序的非暂时性计算机可读存储媒体,所述计算机可读程序经配置以执行根据权利要求1到3中任一权利要求所述的方法。
5.一种计量模块,其包括根据权利要求4所述的计算机程序产品。
6.一种分段叠加目标,其具有周期性及分段结构,其中分段参数符合通过根据权利要求1到3中任一权利要求所述的方法导出的所述经估计的最小尺寸。
7.一种方法,其包括:
通过以下各项估计通过SEM(扫描电子显微镜)从CDSEM(临界尺寸扫描电子显微镜)目标导出的CDSEM计量度量值的LER相关不确定性误差:
估计特性化所述LER的至少一个随机参数的变化范围,
根据用于所述计量度量值的给定测量模型以分析方式及/或使用模拟导出由所述经估计范围所引起的误差,及
使用所述经导出误差估计所述LER相关不确定性误差,
其中所述估计、所述导出及所述使用中的至少一者是由至少一个计算机处理器执行。
8.根据权利要求7所述的方法,其进一步包括:基于单个目标不确定性估计针对多个测量模型的所述LER相关不确定性误差;及选择所述测量模型的具有遵守给定所需规范的所述LER相关不确定性误差中的一者。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述多个测量模型包括晶片模型、晶片及场模型及/或场模型。
10.根据权利要求9所述的方法,其中所述多个测量模型包括至少HO模型及CPE模型。
11.根据权利要求7所述的方法,其进一步包括相对于所述经导出误差确定对应测量模型的模型复杂性。
12.一种计算机程序产品,其包括具有与其一起体现的计算机可读程序的非暂时性计算机可读存储媒体,所述计算机可读程序经配置以执行根据权利要求7到11中任一权利要求所述的方法。
13.一种计量模块,其包括根据权利要求12所述的计算机程序产品。
14.一种方法,其包括:
通过以下各项估计归因于LER的光学计量度量值的不确定性误差:
估计特性化所述LER的至少一个随机参数的变化范围,
根据用于所述计量度量值的给定测量模型以分析方式或使用模拟导出由所述经估计范围所引起的误差,及
使用所述经导出误差估计所述不确定性误差,
其中所述估计、所述导出及所述使用中的至少一者是由至少一个计算机处理器执行。
15.根据权利要求14所述的方法,其进一步包括:基于单个目标不确定性估计针对多个测量模型的所述不确定性误差;及选择所述测量模型的具有遵守所需规范的所述LER相关不确定性误差中的一者。
16.根据权利要求15所述的方法,其中所述多个测量模型包括晶片模型、晶片及场模型及/或场模型。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造