[发明专利]光刻设备和方法有效

专利信息
申请号: 201880013042.5 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN110312970B 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: B.利鲍格;F-J.斯蒂克尔;J.霍夫曼;D.杜尔 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 任丽荣
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光刻 设备 方法
【说明书】:

发明涉及一种光刻设备(100B),其具有光学元件(202),与所述光学元件(202)耦连的接口(204),与所述接口(204)分开的构件(208),所述构件直接地以形状配合和/或力配合方式与所述光学元件(202)连接,其中,所述光学元件(202)具有啮合部段(210)并且所述构件(208)具有对应啮合部段(232),所述对应啮合部段设置为啮合到所述啮合部段(210)中,以便把所述构件(208)以形状配合和/或力配合方式与所述光学元件(202)连接。

技术领域

本发明涉及一种光刻设备和用于制造这种光刻设备的方法。

背景技术

优先权文献DE 10 2017 203 079.8的内容通过援引被完全引用。

微光刻被用于制造微结构化的构造元件、例如集成电路。微光刻过程利用光刻设备执行,光刻设备具有照射系统和投影系统。在此,借助照射系统照射的掩膜(光罩)的像借助投影系统投影到用光敏层(感光电阻)涂层的并且布置在投影系统的像平面中的衬底、例如硅晶片上,以便将掩膜结构转移到衬底的光敏涂层上。

在集成电路制造中寻求始终更小结构的驱动下,目前正在开发EUV光刻系统,该光刻系统使用具有0.1nm至30nm范围内、尤其13.5nm波长的光。在这种EUV光刻设备中,由于大多数材料对这些波长的光的高吸收率,必须使用反射光学器件、即反射镜,而不是(如迄今为止)折射光学器件、即透镜。

光刻设备的光学元件、例如反射镜或者透镜可以借助接口、例如支座(Fassung)耦连。例如这种光学元件可以容纳在接口中。在接口上又可以有其他构件,例如遮光挡板,保护装置和尤其针对在浸没式光刻中的应用而言用于浸没液体或者冲洗介质的流体导引元件固定在接口上。在此需要额外构件相对于接口的校准。

发明内容

在此背景下,本发明要解决的技术问题在于提供一种改进的光刻设备。

据此建议一种光刻设备,其带有光学元件,与光学元件耦连的接口,和与所述接口分开的构件,该构件直接地以形状配合和/或力配合方式与光学元件连接。在此,光学元件具有啮合部段并且所述构件具有对应啮合部段,对应啮合部段设置为啮合到所述啮合部段中,以便把所述构件以形状配合和/或力配合方式与所述光学元件连接。

通过所述构件直接固定在光学元件上可以避免所述构件间接地、即借助接口与光学元件连接。由此可以避免构件相对于接口的校准。此外可以避免针对所述构件的厚重和刚硬的构造方式。此外也可以实现结构空间减小。构件与接口的不期望的耦连被取消。此外也可以避免不可拆卸的或者难于拆卸的连接部,例如避免构件与光学元件的粘接。

在此,直接的连接应理解为一种连接,其在构件和光学元件之间没有额外构件、例如螺栓或者夹紧装置,或者没有添加剂、例如粘合剂的情况下产生。就是说,构件径直地与光学元件连接。形状配合的连接通过至少两个连接配对件、在此即光学元件和接口的相互嵌合或者从后方的咬合实现。力配合的连接的前提是向待相互连接的面上的法向力。力配合的连接可以通过摩擦接合实现。只要通过静摩擦造成的抵抗力(即反作用力)未被超过,表面的相对的移动就被阻止。构件与接口分开应理解为,构件和接口是两个相互分开的结构元件,两者不相互连接或者耦连。也即不存在接口和构件之间的耦连或者连接。

所述接口例如可以是支座。光学元件借助接口可以与光刻设备的投影系统、尤其与投影系统的承载架耦连。优选地,所述接口承载或者固持光学元件。例如光学元件可以容纳在接口中。接口可以借助连接与光学元件耦连。所述连接可以是形状配合、力配合或者说摩擦接合或者材料接合的连接。该连接也可以是组合式的形状配合、力配合和/或材料接合的连接。材料接合的连接中,连接配对件通过原子力或者分子力接合。材料接合的连接是不可拆卸的连接,这些连接只能通过破坏连接剂或者连接配对件分开。优选地,光学元件、接口和构件是光刻设备的光学系统的一部分。所述光学系统例如可以是光刻设备的投影系统。

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