[发明专利]用于等离子体均匀度的径向和方位控制的系统和方法

权利要求书

1.一种产生等离子体以用于处理工件的系统，包括：

工艺腔室，所述工艺腔室可操作以用于被抽空；

壳体，所述壳体界定波导空腔；

第一导电板，所述第一导电板设置在所述壳体内，其中所述第一导电板面向所述工艺腔室并设置在所述波导空腔距所述工艺腔室的远侧上；

一个或多个调整装置，所述一个或多个调整装置与所述第一导电板和所述壳体耦接，其中所述一个或多个调整装置可操作以用于在位置范围内至少调整所述第一导电板的位置；

第二导电板，所述第二导电板与所述壳体耦接且插入所述波导空腔与所述工艺腔室之间，所述第二导电板中形成多个孔以用于允许所述波导空腔内的电磁辐射经由所述孔传播到所述工艺腔室中；

介电板，所述介电板封闭所述工艺腔室而与所述波导空腔隔开，使得当所述工艺腔室被抽空时所述波导空腔不被抽空；以及

一个或多个电子设备组，所述一个或多个电子设备组将所述电磁辐射发送到所述波导空腔中，使得当至少一种工艺气体在所述工艺腔室内且所述电磁辐射从所述波导空腔传播到所述工艺腔室中时，形成所述等离子体，

其中所述电磁辐射以旋转频率Ω来提供。

2.如权利要求1所述的系统，其中当所述第一导电板经调整成所述位置范围内的本征模式位置且所述一个或多个电子设备组将所述电磁辐射发送到所述波导空腔中时，所述波导空腔能够支持本征模式。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述一个或多个调整装置由所述调整装置中的三个调整装置组成，使得调整所述三个调整装置调整了所述第一导电板在所述位置范围内的所述位置和所述第一导电板相对于所述壳体的倾斜。

4.如权利要求1所述的系统，其中所述一个或多个调整装置的每个包括：

螺杆、

齿轮装置、

磁性致动器、

步进电机、

或压电致动器，

所述螺杆、所述齿轮装置、所述磁性致动器、所述步进电机、或所述压电致动器与所述第一导电板耦接；

并且所述系统包括一个或多个导电波纹管，所述一个或多个导电波纹管与所述一个或多个调整装置一一对应，

其中所述一个或多个导电波纹管的每个围绕它的相应调整装置，并将所述第一导电板与所述壳体电气连接。

5.如权利要求1所述的系统，进一步包括：RF扼流器，所述RF扼流器与所述第一导电板一起设置，以减少经由所述第一导电板与所述壳体之间的间隙的微波泄漏，其中所述RF扼流器包括：

导电支架，所述导电支架围绕所述第一导电板的外周设置在所述第一导电板背离所述第二导电板的一侧上；以及

介电材料，所述介电材料由所述导电支架抵靠所述第一导电板固定，其中所述介电材料具有侧向尺寸其中ε₁为所述介电材料的介电常数，λ为所述电磁辐射的波长，且m为大于零的任何整数。

6.如权利要求1所述的系统，其中所述一个或多个电子设备组的每个将其驱动阻抗与由所述波导空腔呈现的对所述电磁辐射的阻抗相匹配。

7.如权利要求1所述的系统，进一步包括信号发生器，所述信号发生器至少用于：

将第一微波信号提供至所述一个或多个电子设备组中的第一电子设备组；以及

将第二微波信号提供至所述一个或多个电子设备组中的第二电子设备组；

并且其中：

所述第一微波信号和第二微波信号具有共同频率；以及

所述第一电子设备组和第二电子设备组分别放大所述第一微波信号和第二微波信号，以提供所述电磁辐射。