[发明专利]感光性树脂组合物、含杂环聚合物前体、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件有效

专利信息
申请号: 201880012501.8 申请日: 2018-02-15
公开(公告)号: CN110325911B 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 川端健志;岩井悠;涩谷明规 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027;B32B15/088;B32B27/34;C08G73/06;G03F7/004;G03F7/028;G03F7/038;G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 薛海蛟
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 感光性 树脂 组合 含杂环 聚合物 固化 层叠 制造 方法 半导体器件
【权利要求书】:

1.一种感光性树脂组合物,其包含选自聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑前体中的含杂环聚合物前体和溶剂,

所述感光性树脂组合物的固体成分的氨值为0.0009mmol/g~0.0120mmol/g。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,

所述含杂环聚合物前体的氨值为0.0010mmol/g~0.0300mmol/g。

3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,

所述含杂环聚合物前体的氨值为0.0030mmol/g~0.0200mmol/g。

4.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其中,

所述含杂环聚合物前体包含由下述式(1)表示的重复单元或由式(2)表示的重复单元;

式(1)

式(1)中,A1及A2分别独立地表示氧原子或NH,

R111表示2价有机基团,R115表示4价有机基团,R113及R114分别独立地表示氢原子或1价有机基团;

式(2)

式(2)中,R121表示2价有机基团,R122表示4价有机基团,R123及R124分别独立地表示氢原子或1价有机基团。

5.根据权利要求4所述的感光性树脂组合物,其中,

所述含杂环聚合物前体包含由式(1)表示的重复单元。

6.根据权利要求5所述的感光性树脂组合物,所述R111由-Ar-L-Ar-表示,其中,Ar分别独立地为芳香族烃基,L为任选地经氟原子取代的碳原子数1~10的脂肪族烃基、-O-、-CO-、-S-、-SO2-或-NHCO-、以及由上述2个以上的组合构成的基团。

7.根据权利要求5所述的感光性树脂组合物,其中,

所述R113及R114中的至少一个包含自由基聚合性基团。

8.根据权利要求5所述的感光性树脂组合物,其中,

所述R115为包含芳香环的4价有机基团。

9.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其还包含自由基聚合性化合物。

10.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其还包含碱产生剂。

11.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其还包含光自由基聚合引发剂。

12.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其使用于负型显影中。

13.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其使用于再配线层用层间绝缘膜的形成中。

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