[发明专利]对准衍射光学系统的方法和衍射光学元件有效

专利信息
申请号: 201880012492.2 申请日: 2018-01-25
公开(公告)号: CN110312968B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: S·B·罗博尔;S·G·J·马西森;S·M·B·鲍默 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01B11/00;G02B5/18;G11B7/1353
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王益
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 对准 衍射 光学系统 方法 光学 元件
【权利要求书】:

1.一种将待操作的衍射光学系统与操作束对准的方法,所述方法包括:

使用具有与所述操作束不同的波长范围的对准束并使用被优化以在多个预定方向上衍射所述对准束和所述操作束的衍射光学元件来对准所述衍射光学系统,

其中在对准期间,沿着与在所述衍射光学系统的操作期间所述操作束将被朝向所述衍射光学元件引导所沿着的光学路径相同的光学路径引导所述对准束。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述多个预定方向是同一方向。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述对准束的波长范围处于比所述操作束的波长更长的波长。

4.根据权利要求3所述的方法,其中所述对准束包括红外辐射,所述操作束包括软X射线辐射。

5.根据权利要求1或2所述的方法,其中通过由所述对准束的光源泵浦的产生高次谐波的光源来产生所述操作束。

6.根据权利要求5所述的方法,其中使用具有比用于产生所述操作束的强度更低的强度的对准束来执行所述对准。

7.根据权利要求6所述的方法,还包括在执行所述对准的同时从所述产生高次谐波的光源移除对准束滤光器,所述对准束滤光器将在用所述操作束操作期间被使用。

8.根据权利要求1或2所述的方法,其中对准所述衍射光学系统包括配置所述衍射光学系统的光学元件。

9.根据权利要求1或2所述的方法,还包括通过给所述衍射光学元件提供具有第一节距的第一周期性结构和具有第二节距的第二周期性结构来优化所述衍射光学元件。

10.根据权利要求9所述的方法,其中所述周期性结构包括多节距周期性结构。

11.根据权利要求9所述的方法,其中所述周期性结构包括光栅。

12.根据权利要求9所述的方法,其中所述周期性结构是共面的。

13.根据权利要求9所述的方法,其中所述周期性结构被叠置。

14.根据权利要求9所述的方法,其中所述周期性结构被交错。

15.根据权利要求9所述的方法,其中:

所述第一周期性结构被形成于当所述对准束的斑被投影到所述衍射光学元件上时对应于所述对准束的斑的区域处;和

所述第二周期性结构被形成于当所述操作束的斑被投影到所述衍射光学元件上时对应于所述操作束的斑的区域处。

16.一种在同一方向上衍射具有不同的波长范围的第一束和第二束的方法,所述方法包括:

使用具有第一周期性结构和第二周期性结构的衍射光学元件,所述第一周期性结构具有第一节距,所述第二周期性结构具有第二节距,其中所述节距被选择成在所述同一方向上衍射所述第一束和第二束,

其中,沿着与在通过所述第二束进行操作期间所述第二束朝向所述衍射光学元件被引导所沿着的光学路径相同的光学路径在通过所述第一束进行对准期间引导所述第一束。

17.根据权利要求16所述的方法,其中所述第一束的波长范围处于比所述第二束的波长更长的波长处。

18.根据权利要求17所述的方法,其中所述第一束包括红外辐射,所述第二束包括软X射线辐射。

19.根据权利要求16所述的方法,其中所述周期性结构包括多节距周期性结构。

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