[发明专利]X射线用金属网格、X射线摄像装置及X射线用金属网格的制造方法在审
申请号: | 201880011602.3 | 申请日: | 2018-02-27 |
公开(公告)号: | CN110291425A | 公开(公告)日: | 2019-09-27 |
发明(设计)人: | 小谷政弘;川上博己 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G01T7/00 | 分类号: | G01T7/00;A61B6/00;A61B6/06;G01N23/20008;G21K1/06 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦;尹明花 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阳极氧化覆膜 金属网格 阀金属 凹凸形状 栅格结构 开口 蚀刻 蚀刻掩模 主面 制造 | ||
金属网格包括:具有弯曲的主面的阀金属板、在该阀金属板的主面上形成的阳极氧化覆膜、以及包含在阳极氧化覆膜上周期性地形成的凹凸形状的栅格结构。此外,金属网格的制造方法包括:使具有主面的阀金属板的主面弯曲的工序;在阀金属板的主面上形成阳极氧化覆膜的工序;和通过在阳极氧化覆膜的表面上形成具有周期性的开口的蚀刻掩模,并经开口对阳极氧化覆膜进行蚀刻,从而在阳极氧化覆膜上形成包含周期性的凹凸形状的栅格结构的工序。
技术领域
本发明的一个侧面涉及X射线用金属网格、X射线摄像装置和X射线用金属网格的制造方法。
背景技术
在专利文献1中记载有与X射线用金属栅格及其制造方法相关的技术。在该文献中记载的制造方法中,首先,在金属基板的一个主面上,形成设置有抗蚀剂层的第一区域和未设置抗蚀剂层的第二区域。接着,在与第二区域对应的金属基板上,通过阳极氧化法而形成多个孔。接着,将第一区域的抗蚀剂层去除,从而在与第一区域对应的金属基板上形成凹部。接着,在凹部埋设X射线吸收性材料。
[现有技术文献]
专利文献
专利文献1:日本特开2016-211912号公报
发明内容
[发明所要解决的技术问题]
例如,在X射线摄像装置等X射线相关领域中,有时利用周期性地配置有X射线透过率比较高的区域(X射线经过区域)与X射线透过率比较低的区域(X射线遮蔽区域)的金属网格。作为一个例子,在使用塔尔博特干涉仪或塔尔博特-劳厄干涉仪等干涉仪的X射线摄像装置中,使用多个这样的金属网格。在金属网格中,优选X射线经过区域和X射线遮蔽区域各自具有例如宽度为数μm、厚度为数十μm的高的宽高比(aspect ratio)的细微结构。在现有的金属网格的制作方法中,通过对某种材质的基板的表面进行蚀刻而形成栅格结构,且根据需要在通过蚀刻而产生的空隙埋入X射线透过率低的金属(例如金(Au))。在这样制作的金属网格中,X射线经过区域的向基板内部去的延伸方向与基板的表面垂直。在例如专利文献1中记载的X射线用金属栅格中,因为基板的表面是平坦的,所以所有X射线经过区域的延伸方向相互平行。
如上所述,当所有X射线经过区域的延伸方向相互平行的情况下,产生以下问题。即,当金属网格接受从点状的X射线源以放射状扩散的X射线时,距金属网格的中心的距离越远,入射X射线的行进方向与X射线经过区域的延伸方向的相对角度越大,难以得到该金属网格的所期望的功能。因此,X射线能够射入的面积受限。
另外,在专利文献1中记载有图22所示那样的结构。在该结构中,以向从X射线源101放射的X射线XL的焦点聚焦的方式,形成有作为X射线经过区域的多个孔102。但是,认为:极难以在平板状的部件上形成延伸方向相互倾斜的具有高的宽高比的多个细微的孔102。
本发明的一个侧面是鉴于这样的问题而完成的,其目的在于,提供一种在离中心远的位置也能够得到所期望的功能且能够使X射线能够射入的面积更大的X射线用金属网格、X射线摄像装置以及X射线用金属网格的制造方法。
[用于解决技术问题的技术手段]
本发明的一个实施方式的X射线用金属网格包括:具有弯曲的主面的阀金属板、在阀金属板的主面上形成的阳极氧化覆膜、和包含在阳极氧化覆膜上周期性地形成的凹凸形状的栅格结构。在该X射线用金属网格中,在凹凸形状的凹部为空隙的情况、或由X射线透过率比阳极氧化覆膜高的材料填埋多个凹部的情况下,凹部内成为X射线经过区域,在凸部残留的阳极氧化覆膜成为X射线遮蔽区域。此外,在由X射线透过率比阳极氧化覆膜低的材料填埋凹部的情况下,凹部内成为X射线遮蔽区域,在凸部残留的阳极氧化覆膜成为X射线经过区域。
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