[发明专利]具有主动短路故障模式的功率半导体装置在审
| 申请号: | 201880009835.X | 申请日: | 2018-01-31 |
| 公开(公告)号: | CN110268522A | 公开(公告)日: | 2019-09-20 |
| 发明(设计)人: | 柳春雷;F.杜加尔;M.拉希莫;P.K.施泰默 | 申请(专利权)人: | ABB瑞士股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L23/62 | 分类号: | H01L23/62;H01L25/07;H01L29/16;H01L23/051;H01L23/535 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 徐予红;张金金 |
| 地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 宽带隙材料 功率半导体装置 芯片 栅极信号 感测 施加 正常操作模式 半导体装置 故障模式 控制功率 主动短路 加热 | ||
1.一种用于控制功率半导体装置(10)的方法,所述功率半导体装置(10)具有提供Si开关(14)的Si芯片(12)并且具有提供宽带隙材料开关(18)的宽带隙材料芯片(16),其中所述Si开关(14)和所述宽带隙材料开关(18)被并联电连接,所述方法包括:
在正常操作模式期间,通过将对应栅极信号施加到至少所述宽带隙材料开关(18)来控制至少所述宽带隙材料开关(18),以用于切换经过所述功率半导体装置(10)的电流;
感测所述功率半导体装置(10)中的故障;
在所感测故障的情况下,通过将栅极信号施加到所述Si芯片(12)来控制所述Si开关(14),使得在所述Si芯片(12)中生成电流,所述电流将所述Si芯片(12)加热到形成经过所述Si芯片(12)的永久导通通路的温度,其中施加到所述Si开关(14)的所述栅极信号具有比在所述正常操作模式中低的电压,使得所述Si芯片(12)的内部电阻比在所述正常操作模式中高。
2.如权利要求1所述的方法,
其中用于所述Si开关(14)的栅极信号和所述宽带隙材料开关(18)的栅极信号是能够与彼此独立地生成的,使得在感测所述故障之后,只有所述Si开关(14)被提供有栅极信号。
3.如权利要求1或2所述的方法,
其中在所述正常操作模式期间,控制所述Si开关(14)根据所述宽带隙材料开关(18)来被切换。
4.如前述权利要求之一所述的方法,
其中通过测量跨所述功率半导体装置(10)的电压来感测所述故障,当所述功率半导体装置(10)被切换为导通状态时,故障情况下的所述电压高于标称电压。
5.如前述权利要求之一所述的方法,
其中通过容纳所述宽带隙材料芯片(16)的功率半导体模块(30,30’)内部的光检测以及容纳所述宽带隙材料芯片(16)的功率半导体模块(30,30’)内部的电弧电压检测中的至少一个来感测所述故障。
6.如前述权利要求之一所述的方法,
其中所述Si芯片(12)附连到适于当被经过所述Si芯片(12)的电流加热到高于特定温度时形成经过所述Si芯片(12)的导通通路的金属预制件(28)。
7. 如前述权利要求之一所述的方法,
其中所述功率半导体装置(10)适于在被过电流加热时形成经过所述宽带隙材料芯片(16)的至少暂时导通通路;以及
其中所述宽带隙材料芯片(16)附连到适于形成所述导通通路的金属预制件(28’)。
8.如前述权利要求之一所述的方法,
其中所述Si开关(14)是具有内部反向导通二极管的双模类型开关、晶体管或者晶闸管;
其中所述宽带隙材料中的至少一种宽带隙材料是SiC,并且所述宽带隙材料开关(18)是晶体管。
9.一种功率半导体装置(10),包括:
至少一个功率半导体模块(30,30’),所述至少一个功率半导体模块(30,30’)用于容纳具有Si开关(14)的Si芯片(12)以及具有宽带隙材料开关(18)的宽带隙材料芯片(16),其中所述Si开关(14)和所述宽带隙材料开关(18)被并联电连接;
栅极控制器(24,24’),所述栅极控制器(24,24’)用于将栅极信号提供给所述Si开关(14)和所述宽带隙材料开关(18);
测量单元(26),所述测量单元(26)用于感测所述功率半导体装置(10)中的故障;
其中所述栅极控制器(24,24’)适于执行如前述权利要求之一所述的方法。
10. 如权利要求9所述的功率半导体装置(10),
其中所述栅极控制器(24,24’)适于生成用于所述Si开关(14)和所述宽带隙材料开关(18)的公共栅极信号;以及
所述Si开关(14)的栅极(20)和所述宽带隙材料开关(18)的栅极(22)在所述功率半导体装置(10)中与彼此电互连。
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