[发明专利]导电性组合物、导电性组合物的制造方法和导电体的制造方法

说明书

本发明的导电性组合物包含导电性聚合物(A)、上述导电性聚合物(A)以外的水溶性聚合物(B)和溶剂(C)。使用高效液相色谱质谱联用仪测定用正丁醇从上述导电性组合物中提取上述水溶性聚合物(B)的试验溶液时，下述式(I)通过求得的面积比在0.44以下。面积比＝Y/(X+Y)…(I)(式(I)中，X为基于总离子流色谱图，使用来源于分子量(M)为600以上的化合物的离子制作萃取离子色谱图时的峰面积值的总和，Y为基于总离子流色谱图，使用来源于分子量(M)小于600的化合物的离子制作萃取离子色谱图时的峰面积值的总和)。

技术领域

本发明涉及导电性组合物、导电性组合物的制造方法和导电体的制造方法。

本申请要求基于2017年2月10日在日本申请的日本专利特愿第2017-022859号和2017年9月7日在日本申请的日本专利特愿第2017-172284号的优先权，在此里援引其内容。

背景技术

作为光刻技术的下一代，使用电子束或离子束等带电粒子束的图案形成技术受到人们的期待。使用带电粒子束时，为了提高生产率，提高抗蚀剂的灵敏度至关重要。

因此，现今的主流是使用高灵敏度的化学放大型抗蚀剂，其中使曝光部分或带电粒子束照射到的部分产生酸，接着通过加热处理(PEB：Post exposure bake，曝光后烘烤)促进交联反应或分解反应。

但是，在使用带电粒子束的方法中，尤其是基材为绝缘性时，存在由基材的带电(充电)所产生的电场而导致带电粒子束的轨迹弯曲，而难以获得期望的图案的课题。

作为解决该课题的方法，已知有效的技术有：在抗蚀剂表面涂布含有导电性聚合物的导电性组合物形成涂膜，赋予抗蚀剂抗静电功能的技术。

通常，将含有导电性聚合物的导电性组合物作为半导体的电子束光刻工序的抗静电剂应用时，导电性组合物的涂布性与其对基材和涂布于基材上的抗蚀剂等层叠物的影响有此消彼长的关系。

例如，为了提高导电性组合物的涂布性，添加表面活性剂等添加物时，存在表面活性剂对抗蚀剂特性产生不利影响，无法获得规定图案的问题。

对于这样的问题，专利文献1中提出了涂布性等优异的导电性组合物，其为含具有末端疏水性基团的水溶性聚合物的导电性组合物。

另一方面，上述的导电性组合物中含异物时，就有电子束绘图后的图案的缺陷等问题。因此，用过滤器对导电性组合物进行微滤，专利文献1的导电性组合物的话，就有微滤时产生过滤器的堵塞，不得不频繁更换过滤器的课题。此外，专利文献2中，为了使导电性组合物微滤时的过滤器的更换频率下降，进行了改良，但是就有过滤时间与导电性组合物在过滤器中的流体流量相应地延长的课题。

现有技术文献

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2002-226721号公报

【专利文献2】国际公布第2014/017540号

发明内容

发明要解决的课题

近年，随着半导体器件的小型化的趋势，需要管理数纳米量级的抗蚀剂形状。作为能够适用于这样的半导体器件的下一代工艺的抗静电剂，要求降低微滤的过滤器更换频率且减少堵塞、异物的导电性组合物。

本发明是鉴于上述情况而完成的发明，目的在于提供一种过滤时间短的导电性组合物和导电性组合物的制造方法，以及将上述导电性组合物涂布于基材形成涂膜的导电体的制造方法。

解决课题的手段

本发明具有以下的实施方式。