[发明专利]精度管理方法、精度管理系统、管理装置、分析装置以及精度管理异常判定方法

权利要求书

1.一种精度管理方法，在经由网络与设置于多个设施的各个设施的分析装置连接的管理装置中使用，其中，

经由网络，从各设施的分析装置分别取得各设施的分析装置测定人工地生成的精度管理物质而得到的第1精度管理信息和测定多个检体而得到的第2精度管理信息，

根据取得的所述第1精度管理信息以及所述第2精度管理信息，输出至少一个设施的分析装置的精度管理有关信息。

2.根据权利要求1所述的精度管理方法，其中，

经由所述网络，从各设施的分析装置分别取得各设施的分析装置对测定多个检体的各个检体而得到的多个测定结果进行统计处理而得到的统计信息作为所述第2精度管理信息。

3.根据权利要求2所述的精度管理方法，其中，

所述分析装置具备光学式的流式细胞仪，

所述测定结果包括测定检体而得到的光的强度，

取得对通过所述流式细胞仪测定多个检体的各个检体而得到的光的强度进行统计处理而得到的统计信息作为所述第2精度管理信息。

4.根据权利要求3所述的精度管理方法，其中，

所述测定结果还包括根据所述光的强度计算的所述检体中的每个粒子种类的粒子计数值，

所述第2精度管理信息包括对所述光的强度进行统计处理而得到的第1统计信息和对所述粒子计数值进行统计处理而得到的第2统计信息，

根据包含于所述第2精度管理信息的所述第1统计信息以及所述第1精度管理信息，输出所述精度管理有关信息。

5.根据权利要求3或者4所述的精度管理方法，其中，

用通过激励光产生荧光的染料对检体进行染色，

所述光的强度是从对检体进行染色的染料产生的荧光的强度。

6.根据权利要求2至5中的任意一项所述的精度管理方法，其中，

各设施的分析装置通过从包含于预定的期间的测定结果选择预定数量的测定结果，并对选择的预定数量的测定结果进行统计处理，从而计算所述第2精度管理信息。

7.根据权利要求1至6中的任意一项所述的精度管理方法，其中，

使能够参照所述第1精度管理信息的画面和能够参照所述第2精度管理信息的画面作为所述精度管理有关信息分别显示于显示部。

8.根据权利要求1至6中的任意一项所述的精度管理方法，其中，

使能够分别参照所述第1精度管理信息以及所述第2精度管理信息的画面作为所述精度管理有关信息显示于显示部。

9.根据权利要求7或者8所述的精度管理方法，其中，

在所述画面中，使所述第2精度管理信息以时间序列显示。

10.根据权利要求9所述的精度管理方法，其中，

在所述画面中，与所述第2精度管理信息一起，使所述第1精度管理信息以时间序列显示。

11.根据权利要求8所述的精度管理方法，其中，

使在以所述第1精度管理信息以及所述第2精度管理信息为2轴的坐标空间中表示所述第1精度管理信息以及所述第2精度管理信息的组合的图表作为所述精度管理有关信息显示于所述显示部。

12.根据权利要求7至11中的任意一项所述的精度管理方法，其中，

使能够将从所述一个设施的所述分析装置取得的所述第2精度管理信息在与从与所述一个设施不同的其他设施的所述分析装置取得的所述第2精度管理信息之间进行比较的画面显示于所述显示部。

13.根据权利要求1至12中的任意一项所述的精度管理方法，其中，

在从所述一个设施的所述分析装置取得的所述第2精度管理信息和从与所述一个设施不同的其他设施的所述分析装置取得的所述第2精度管理信息的关系与预定的条件符合的情况下，输出报告信息作为所述精度管理有关信息。