[发明专利]用于还原金属卤化物的方法

权利要求书

1.由式MX_m的前体化合物制备式MX_n的化合物的方法，其中

M为金属，

X为卤化物，选自F、Cl、Br、J，

m为选自2至8的数，并且

n为选自1至7的数，要求是n<m，

包括其中所述前体化合物利用硅烷化合物还原形成式MX_n的化合物的方法步骤。

2.根据权利要求1所述的方法，其中m–n＝1或2，并且/或者

其中m＝4，5，或6并且n＝3，4，或5。

3.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中所述金属M选自过渡金属、镧系元素、锕系元素、In、Tl、Sn、Pb、Sb和Bi。

4.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中X＝Cl。

5.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，所述方法用于由WCl₆制备WCl₅。

6.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中所述硅烷化合物选自由有机硅烷、硅烷、卤代硅烷和有机卤代硅烷构成的组。

7.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中所述硅烷化合物是具有键合到硅原子的至少一个甲基基团的有机硅烷。

8.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中所述硅烷化合物是寡硅烷或二硅烷-优选地六甲基二硅烷。

9.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中所述还原在具有芳香烃的溶剂中进行，其中所述溶剂优选地为甲苯。

10.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中相对于金属原子与硅原子的比率/金属氧化数之差，所述前体化合物与所述还原剂的所述摩尔物质量比介于2:1与1:2之间，并且/或者

其中所述还原在10℃至50℃的温度下进行。

11.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中使用至少10kg的所述式MX_m的前体化合物。

12.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中所述式MX_n的金属卤化物在还原之后经由升华进行纯化。

13.根据前述权利要求中至少一项所述的方法，其中在所述还原之后和/或在所述升华之后，相对于使用的前体化合物的摩尔量，所述式MX_n的金属卤化物以>90％的收率获得。

14.包含纯度>80重量％至优选地>90重量％的式MX_n的化合物的组合物-经由根据前述权利要求中至少一项所述的方法获得。

15.硅烷化合物、特别是有机硅烷用于将式MX_m的前体化合物还原为式MX_n的化合物的用途，其中

M为金属，

X为卤化物，选自F、Cl、Br、J，

m为选自2至8的数，并且

n为选自1至7的数，要求是n<m。