[发明专利]有源矩阵基板、液晶显示面板及液晶显示面板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201880006927.2 申请日: 2018-01-11
公开(公告)号: CN110178207A 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 内田岁久 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;G02F1/1368;G09F9/00;G09F9/30;H01L21/8234;H01L27/088;H01L29/786
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 权鲜枝;刘宁军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 氮化硅层 氧化硅层 栅极绝缘层 基板 氧化物半导体层 液晶显示面板 无机绝缘层 源矩阵基板 栅极电极 漏极电极 源极电极 覆盖 支撑 制造
【权利要求书】:

1.一种有源矩阵基板,具备:

基板;

多个薄膜晶体管,其支撑于上述基板;以及

无机绝缘层,其覆盖上述多个薄膜晶体管,

上述有源矩阵基板的特征在于,

上述多个薄膜晶体管各自具有:

栅极电极,其设置于上述基板上;

栅极绝缘层,其覆盖上述栅极电极;

氧化物半导体层,其设置于上述栅极绝缘层上,隔着上述栅极绝缘层与上述栅极电极相对;以及

源极电极及漏极电极,其电连接到上述氧化物半导体层,

上述栅极绝缘层包含第1氮化硅层和设置于上述第1氮化硅层上的第1氧化硅层,

上述无机绝缘层包含第2氧化硅层和设置于上述第2氧化硅层上的第2氮化硅层,

上述第1氮化硅层的厚度是275nm以上400nm以下,

上述第1氧化硅层的厚度是20nm以上80nm以下,

上述第2氧化硅层的厚度是200nm以上300nm以下,

上述第2氮化硅层的厚度是100nm以上200nm以下。

2.根据权利要求1所述的有源矩阵基板,

上述氧化物半导体层包含In-Ga-Zn-O系半导体。

3.根据权利要求2所述的有源矩阵基板,

上述In-Ga-Zn-O系半导体包含结晶质部分。

4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的有源矩阵基板,

具备包含结晶质硅半导体层作为活性层的另外的薄膜晶体管。

5.根据权利要求4所述的有源矩阵基板,

上述另外的薄膜晶体管包含:

上述结晶质硅半导体层,其设置于上述基板上;

另外的栅极绝缘层,其覆盖上述结晶质硅半导体层;

另外的栅极电极,其设置于上述另外的栅极绝缘层上,隔着上述另外的栅极绝缘层与上述结晶质硅半导体层相对;以及

另外的源极电极及漏极电极,其电连接到上述结晶质硅半导体层。

6.根据权利要求5所述的有源矩阵基板,

上述另外的栅极电极被上述栅极绝缘层覆盖,

上述另外的栅极绝缘层包含第3氮化硅层,

上述栅极绝缘层的上述第1氮化硅层的厚度与上述另外的栅极绝缘层的上述第3氮化硅层的厚度的总计是275nm以上400nm以下。

7.一种液晶显示面板,其特征在于,具备:

权利要求1至6中的任意一项所述的有源矩阵基板;

相对基板,其与上述有源矩阵基板相对;以及

液晶层,其设置于上述有源矩阵基板和上述相对基板之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880006927.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top