[发明专利]化学放大型正型光致抗蚀组合物以及图案形成方法

权利要求书

1.一种化学放大型正型光致抗蚀组合物，其包含：

(A)与酸进行反应而使得相对于碱性水溶液的溶解度增加的聚合物、

(B)有机溶剂、

(C)选自由XA-ZA、XB-ZA、XB-ZB、XB-ZC、以及XC-ZA组成的组中的第一光酸产生剂、以及

(D)选自由XA-ZB以及XC-ZB组成的组中的第二光酸产生剂：

此处，XA由下式表示，

R^XA-I⁺-R^XA (XA)

式中，R^XA为烷基芳基，各个R^XA可以相同也可不同，

XB由下式表示，

式中，R^XB分别独立地为非取代芳基、烷基取代芳基、芳基取代芳基、芳基硫基取代芳基、芳氧基取代芳基、非取代烷基、芳基取代烷基、芳基硫基取代烷基、或者芳氧基取代烷基，

XC由下式表示，

式中，R^XC分别独立地为非取代芳基、烷基取代芳基、芳基取代芳基、芳基硫基取代芳基、芳氧基取代芳基、烷基氧基取代芳基、羟基芳基、烷基氧基烷基取代芳基、羧酸酯基取代芳基、酰氧基取代芳基、非取代烷基、芳基取代烷基、芳基硫基取代烷基、烷基氧基取代烷基、羟基烷基、羧酸酯基取代烷基、或者酰氧基取代烷基，R^XC之中的至少一个是烷基氧基取代芳基、羟基芳基、羧酸酯基取代芳基、酰氧基取代芳基、烷基氧基取代烷基、羟基烷基、羧酸酯基取代烷基、或者酰氧基取代烷基，

ZA由下式表示，

R^ZAS0₃^- (ZA)

式中，R^ZA为氟取代烷基、氟取代烷基醚基、氟取代芳基、氟取代酰基、或者氟取代烷氧基芳基，

ZB由下式表示，

式中，R^ZB分别独立地为氟取代烷基、氟取代烷基醚基、氟取代芳基、氟取代酰基、或者氟取代烷氧基芳基，另外，2个R^ZB不结合或相互结合而形成氟取代的杂环结构，

ZC由下式表示，

式中，

R^ZC为氢原子、烷基、烷氧基、或者羟基，

L^ZC为氧基或者羰基氧基，

X^ZC分别独立地为氢原子或者氟原子，

n^ZC1为0～10，且

n^ZC2为0～21，

并且其中XA、XB、或者XC的正电荷与ZA、ZB或者ZC的负电荷结合。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中，

上述聚合物包含选自由下述(P1)～(P4)组成的组中的重复单元，质均分子量为4,000～200,000：

式中，

R^PA为氢原子或者烷基，

R^PB为烷基或者烷基醚基，

R^PC为烷基。

3.根据权利要求1或2所述的组合物，其进一步包含(E)碱性有机化合物或者(F)第三光酸产生剂。

4.根据权利要求1或2所述的组合物，其进一步包含(E)碱性有机化合物与(G)弱酸的组合。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，第一光酸产生剂为XA-ZA，第二光酸产生剂为XA-ZB。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，第一光酸产生剂为XB-ZA、XB-ZB、XB-ZC、或者XC-ZA，第二光酸产生剂为XC-ZB。