[发明专利]用于填充球栅阵列的设备和方法有效
申请号: | 201880004787.5 | 申请日: | 2018-02-27 |
公开(公告)号: | CN110023020B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 黄文洲;林贻潮 | 申请(专利权)人: | 奥利进科技有限公司 |
主分类号: | B23K3/06 | 分类号: | B23K3/06;H05K3/34 |
代理公司: | 北京世峰知识产权代理有限公司 11713 | 代理人: | 卓霖;张春媛 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 填充 阵列 设备 方法 | ||
1.一种用于填充球栅阵列模板的设备,所述设备包括:
平坦的底座;
平板,所述平板安装在所述底座上且能围绕垂直于所述底座的第一轴旋转,所述平板的上表面包括形成所述球栅阵列模板的多个孔洞;以及
安装至所述底座的固定式的球供应槽,
其中,所述底座相对于水平面成角度地倾斜;且
其中,所述球供应槽配置成用于在所述平板围绕所述第一轴旋转时,将多个球分配到形成所述球栅阵列模板的对应的多个孔洞上。
2.如权利要求1所述的设备,其中,所述平板包括安装在所述底座上的第一平板组件及第二平板组件,所述第二平板组件联接至所述第一平板组件,使得所述第一平板组件旋转地驱动所述第二平板组件。
3.如权利要求2所述的设备,其中,所述多个孔洞设置在所述第二平板组件的上表面上。
4.如权利要求1所述的设备,其中,相对于所述水平面的角度能基于所述球的尺寸和所述平板的旋转速度调整。
5.如权利要求1所述的设备,其中,所述球供应槽包括开放底部,并且其中,所述球供应槽安装至所述底座,使得在所述球供应槽中的球与所述平板的上表面接触。
6.如权利要求1所述的设备,其中,所述球供应槽进一步包括具有上端和下端的球闸侧壁,其中,所述球闸侧壁围绕邻近于所述上端的第二轴枢转,所述第二轴基本上平行于所述平板。
7.如权利要求6所述的设备,其中,当所述平板围绕所述第一轴旋转时,所述球闸侧壁配置成用于检测在分配所述多个球至对应的多个孔洞上期间的不平整。
8.一种用于填充球栅阵列模板的方法,该方法包括:
将平板安装至平坦的底座,其中,所述底座相对于水平面成角度倾斜,并且其中,所述平板的上表面包括形成所述球栅阵列模板的多个孔洞;
将固定式的球供应槽安装至所述底座,使得所述球供应槽邻近于所述平板的上表面;以及
当使所述平板围绕垂直于所述底座的第一轴旋转时,将多个球从所述球供应槽分配到形成所述球栅阵列模板的对应的多个孔洞上。
9.如权利要求8所述的方法,其中,将所述平板安装至平坦的底座包括在所述底座上安装第一平板组件,以及联接第二平板组件至所述第一平板组件,使得所述第一平板组件旋转地驱动所述第二平板组件。
10.如权利要求8所述的方法,进一步包括基于球的尺寸和所述平板的旋转速度调整相对于所述水平面的角度。
11.如权利要求8所述的方法,其中,所述球供应槽包括开放底部,使得在所述球供应槽中的球与所述平板的上表面接触。
12.如权利要求8所述的方法,其中,所述球供应槽进一步包括具有上端和下端的球闸侧壁,并且其中,将所述球供应槽安装至所述底座包括:
使所述球闸侧壁围绕邻近于所述上端的第二轴枢转,所述第二轴平行于所述平板。
13.如权利要求12所述的方法,进一步包括当所述平板围绕所述第一轴旋转时,通过所述球闸侧壁检测在分配所述多个球至对应的多个孔洞上期间的不平整。
14.如权利要求8所述的方法,进一步包括提供真空给所述多个孔洞以吸引和固定所述多个球。
15.一种转移多个球的方法,该方法包括:
当球栅阵列模板在第一位置时,使用如权利要求8所述的方法,用多个球填充所述球栅阵列模板;
旋转平板,以将所述球栅阵列模板从所述第一位置移动到第二位置;以及
从所述球栅阵列模板捡取所述多个球,其中所述球栅阵列模板在所述第二位置固定。
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