[发明专利]树脂膜形成方法以及掩膜

权利要求书

1.一种树脂膜形成方法，为在基板的被成膜面上形成图案化的树脂膜的方法，至少按顺序具备：

第一工序，使用掩膜主体具有可挠性支撑部与相对于所述基板的所述被成膜面的粘合性因UV光的照射而降低的粘结部重叠的结构的掩膜，以使所述粘结部相对于所述基板的所述被成膜面相接的方式来设置所述掩膜；

第二工序，通过设置在所述掩膜主体的开口部，将汽化的树脂材料供给到所述基板并使其在该基板的所述被成膜面上凝缩，当在该基板的所述被成膜面上形成液状的树脂材料膜之后，对该树脂材料膜和所述掩膜照射UV光以使所述树脂材料膜固化，变为所述粘结部相对于所述基板的粘结力减弱的状态；以及

第三工序，将所述掩膜从所述基板剥离，

进行控制以使所述树脂材料膜的厚度不超过所述粘结部的厚度。

2.根据权利要求1所述的树脂膜形成方法，其中，

所述第一工序和所述第三工序在大气压气氛下进行，所述第二工序在减压气氛下进行。

3.一种掩膜，为在权利要求1所述的树脂膜形成方法中使用，且用于当通过设置在掩膜主体的开口部在基板的被成膜面上形成液状的树脂材料膜之后，使该树脂材料膜聚合以在该基板上形成树脂膜的掩膜，

所述掩膜主体具有粘结部重叠于可挠性支撑部的结构，

所述粘结部为相对于所述基板的粘合性因UV光的照射而降低的部件，

所述粘结部的厚度大于形成在所述基板上的树脂材料膜的厚度。