[发明专利]氢气生成装置有效
| 申请号： | 201880002443.0 | 申请日： | 2018-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN109476478B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 神原信志;三浦友规 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人岐阜大学;泽藤电机株式会社 |
| 主分类号： | C01B3/04 | 分类号： | C01B3/04;B01D53/22;C01B3/56;H01M8/06;H01M8/0606 |
| 代理公司： | 青岛清泰联信知识产权代理有限公司 37256 | 代理人： | 刘雁君;栾瑜 |
| 地址： | 日本岐*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氢气 生成 装置 | ||
1.一种氢气生成装置，包括：
平板状的电介质体，具有第一表面和第二表面，所述第一表面中具有形成为凹部的源气体流动通道，所述第二表面相对于所述第一表面基本平行；
接地电极，面向所述电介质体的所述第二表面设置；
氢气流动通道板，包括氢气流动通道和氢气出口，所述氢气流动通道板设置于所述电介质体的第一表面侧；
氢气分离膜，设置于所述电介质体的所述源气体流动通道和所述氢气流动通道板的所述氢气流动通道之间，所述氢气分离膜分隔所述源气体流动通道和所述氢气流动通道；以及
高压电源，被配置为在所述氢气分离膜和所述接地电极之间的所述源气体流动通道内引起放电，所述高压电源连接至所述氢气分离膜，
其中，所述氢气分离膜被配置为将由所述源气体流动通道内的所述源气体通过放电所产生的氢气传送到所述氢气流动通道板的所述氢气流动通道内；
所述源气体流动通道为一个连续的凹槽，所述凹槽包括通道段和回流通道段，所述通道段以直线或曲线延伸，所述回流通道段从所述通道段往回延伸，所述通道段和所述回流通道段交替连接；
并且其中所述氢气分离膜面向所述电介质体的所述第一表面设置以便密封所述源气体流动通道的开口。
2.根据权利要求1所述的氢气生成装置，其中，所述源气体为氨气。
3.一种氢气生成装置，包括：
平板状的电介质体，具有第一表面和第二表面，所述第一表面中具有形成为凹部的源气体流动通道，所述第二表面相对于所述第一表面基本平行；
高压电极，面向所述电介质体的所述第二表面设置；
氢气流动通道板，包括氢气流动通道和氢气出口，所述氢气流动通道板设置于所述电介质体的第一表面侧；
氢气分离膜，设置于所述电介质体的所述源气体流动通道和所述氢气流动通道板的所述氢气流动通道之间，所述氢气分离膜分隔所述源气体流动通道和所述氢气流动通道；以及
高压电源，被配置为在所述氢气分离膜和所述高压电极之间的所述源气体流动通道内引起放电，所述高压电源连接至所述高压电极，
其中，所述氢气分离膜被配置为将由所述源气体流动通道内的所述源气体通过放电所产生的氢气传送到所述氢气流动通道板的所述氢气流动通道内；
所述源气体流动通道为一个连续的凹槽，所述凹槽包括通道段和回流通道段，所述通道段以直线或曲线延伸，所述回流通道段从所述通道段往回延伸，所述通道段和所述回流通道段交替连接；
并且其中所述氢气分离膜面向所述电介质体的所述第一表面设置以便密封所述源气体流动通道的开口。
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