[实用新型]毫米波太赫兹成像设备有效
申请号: | 201822275832.0 | 申请日: | 2018-12-29 |
公开(公告)号: | CN210534350U | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
发明(设计)人: | 赵自然;游燕;王迎新;乔灵博;张丽 | 申请(专利权)人: | 同方威视技术股份有限公司;清华大学 |
主分类号: | G01V8/00 | 分类号: | G01V8/00;G01V8/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 杨飞 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 毫米波 赫兹 成像 设备 | ||
1.一种用于对被检对象进行安全检查的毫米波太赫兹成像设备,其包括聚焦透镜,微极化片阵列、探测器阵列和图形处理装置,其特征在于,
所述聚焦透镜设置在被检对象和所述微极化片阵列之间,且被构造为将被检对象自发辐射或反射回来的毫米波太赫兹波聚焦在所述探测器阵列上;
所述微极化片阵列设置在所述探测器阵列的朝向所述聚焦透镜的一侧且设置为贴近所述探测器阵列;
所述探测器阵列设置在所述聚焦透镜的焦平面上,且被构造为将透过所述微极化片阵列的毫米波太赫兹波转化为被检对象的极化图像;以及
所述图形处理装置设置于所述探测器阵列的远离所述微极化片阵列的一侧,且被构造为处理所述极化图像以对被检对象进行识别分类;
其中所述微极化片阵列包括多个微极化片,所述多个微极化片中的每个微极化片被完全极化或部分极化或不被极化。
2.根据权利要求1所述的毫米波太赫兹成像设备,其特征在于,所述探测器阵列包括多个感波单元,多个感波单元的数量与多个微极化片的数量相同,所述探测器阵列上的每个感波单元的位置与所述微极化片阵列上的每个微极化片的位置相对应。
3.根据权利要求1所述的毫米波太赫兹成像设备,还包括毫米波太赫兹辐射源,其用于向被检对象辐射毫米波太赫兹波。
4.根据权利要求3所述的毫米波太赫兹成像设备,其特征在于,所述微极化片阵列为一维阵列,所述探测器阵列为一维阵列,所述毫米波太赫兹成像设备还包括设置在被检对象和聚焦透镜之间的光路中的可旋转扫描反射镜。
5.根据权利要求4所述的毫米波太赫兹成像设备,其特征在于,所述可旋转扫描反射镜能够旋转以在一个特定旋转角度将被检对象上的特定部位成像在一维探测器阵列的特定感波单元上。
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