[实用新型]一种可均匀加热的回火炉有效

专利信息
申请号: 201822269685.6 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN209522869U 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 沈业清;沈业录 申请(专利权)人: 昆山尤特威热处理有限公司
主分类号: C21D1/18 分类号: C21D1/18;C21D9/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 炉体 回火炉 上温度传感器 下温度传感器 加热电极 均匀加热 进气管 本实用新型 位于炉体 吹气孔 吹气块 电磁阀 控制器电性 安全隐患 温度均匀 控制器 药液孔 溢流孔 支撑 侧壁 连通 保证
【权利要求书】:

1.一种可均匀加热的回火炉,所述回火炉包括炉体(1)、加热电极(5)、上温度传感器(8)、下温度传感器(9)以及控制器(10),其特征在于:所述炉体(1)底部设置有吹气块(2)和支撑块(4),所述炉体(1)通过支撑块(4)与加热电极(5)连接,所述吹气块(2)上设置有吹气孔(3),所述炉体(1)的底部设置有进气管(6),所述进气管(6)与吹气孔(3)之间连通,所述进气管(6)上设置有电磁阀(7),所述上温度传感器(8)位于炉体(1)侧壁的上部,所述下温度传感器(9)位于炉体(1)的底部,所述炉体(1)上设置有排气孔(11)和药液孔(12),所述上温度传感器(8)、下温度传感器(9)、电磁阀(7)以及加热电极(5)均与控制器(10)电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种可均匀加热的回火炉,其特征在于:所述支撑块(4)关于吹气块(2)呈对称状设置,所述吹气孔(3)位于吹气块(2)上远离炉体(1)底面的面上,所述药液孔(12)位于炉体(1)侧壁上靠近炉体(1)底部处,所述加热电极(5)具体位于支撑块(4)的侧壁上,所述排气孔(11)具体位于炉体(1)侧壁上远离炉体(1)底部处。

3.根据权利要求2所述的一种可均匀加热的回火炉,其特征在于:所述加热电极(5)具体位于吹气孔(3)的上方,所述加热电极(5)的两端均与支撑块(4)的侧壁连接,所述支撑块(4)的高度高于吹气块(2)的高度。

4.根据权利要求3所述的一种可均匀加热的回火炉,其特征在于:所述吹气孔(3)位于吹气块(2)上呈阵列状设置,所述加热电极(5)有两个,所述吹气孔(3)的位置与加热电极(5)的位置相对应。

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