[实用新型]带有双扼流槽的FP谐振腔天线有效

专利信息
申请号: 201822268207.3 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN209515987U 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 陶道申;李一凡 申请(专利权)人: 四川睿迪澳科技有限公司
主分类号: H01Q1/36 分类号: H01Q1/36;H01Q1/50;H01Q13/18;H01Q19/10
代理公司: 成都顶峰专利事务所(普通合伙) 51224 代理人: 刘林
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 扼流槽 谐振腔天线 覆盖层 反射 反射底板 本实用新型 馈电结构 多路径干扰 表面电流 顶部设置 金属框架 金属贴片 腔体结构 低旁瓣 介质板 全金属 谐振腔 旁瓣 天线 传播
【说明书】:

本实用新型属于FP谐振腔天线技术领域,具体涉及一种带有双扼流槽的FP谐振腔天线,包括基体、反射覆盖层、双扼流槽结构和馈电结构,所述基体为腔体结构,所述基体的底部为反射底板,所述基体的顶部设置有反射覆盖层,所述反射覆盖层与基体形成谐振腔,所述反射覆盖层由介质板、金属贴片和金属框架组成,所述双扼流槽结构包括第一扼流槽和第二扼流槽,所述第一扼流槽和第二扼流槽设置在反射底板上,所述反射底板上还连接有馈电结构。本实用新型通过设置双扼流槽结构,扼流槽抑制了FP谐振腔天线表面电流的传播,从而降低全金属FP谐振腔天线的旁瓣电流,实现低旁瓣,同时提高了天线的抗多路径干扰能力。

技术领域

本实用新型属于FP谐振腔天线技术领域,具体涉及一种带有双扼流槽的 FP谐振腔天线。

背景技术

法布里-珀罗干涉仪(Fabry-Perotinterferometer)即法布里-珀罗谐振腔,是法国物理学家夏尔-法布里和阿尔弗雷德-珀罗与1897年发明的一种能实现多光束干涉的仪器。1956年,TrentiniGV首先将Fabry-Perot谐振腔理论应用于天线领域,通过在波导喇叭口上方防止一个部分反射覆层与天线底板形成谐振腔,使电磁波在其中多次反射并叠加辐射以提高天线增益。

Fabry-Perot谐振腔天线拥有较为简单的准平面结构,其加工、维护的难度和成本低于反射面、波导喇叭等类型的天线,在达到相同增益时,较高的口径效率和较低的剖面高度又可以使其体积远小于这些类型的天线。Fabry-Perot谐振腔天线的馈电可采用单馈形式,并不需要像阵列天线那样复杂的功分馈电网络,从而使辐射效率大大提升。但由于其阻抗带宽和方向性带宽都较窄(综合导致增益带宽较窄),Fabry-Perot谐振腔天线并未得到广泛应用。

例如:达到15dBi增益时,3dB增益带宽仅为13%,而达到20dBi增益时, 3dB增益带宽仅为6%,远低于喇叭天线、微带阵列天线等传统高增益天线。而且在Fabry-Perot谐振腔天线中,由于四周金属壁的存在,波导馈口处激励起的表面波可以沿着金属地、金属壁和金属覆盖层传播,从而影响天线辐射,形成高旁瓣。

若能扩展高增益Fabry-Perot谐振腔天线的工作带宽,降低Fabry-Perot谐振腔天线的旁瓣,其凭借自身优势会拥有更广阔的应用前景。

实用新型内容

为了解决现有技术存在的上述问题,本实用新型目的在于提供一种带有双扼流槽的FP谐振腔天线。

本实用新型所采用的技术方案为:带有双扼流槽的FP谐振腔天线,包括基体、反射覆盖层、双扼流槽结构和馈电结构,所述基体为腔体结构,所述基体的底部为反射底板,所述基体的顶部设置有反射覆盖层,所述反射覆盖层与基体形成谐振腔,所述反射覆盖层由介质板、金属贴片和金属框架组成,所述双扼流槽结构包括第一扼流槽和第二扼流槽,所述第一扼流槽和第二扼流槽设置在反射底板上,所述反射底板上还连接有馈电结构。

进一步地,所述第一扼流槽和第二扼流槽均为环形扼流槽,所述第一扼流槽和第二扼流槽的轴心与谐振腔的轴心重合,所述第二扼流槽的深度深于第一扼流槽的深度。将第一扼流槽和第二扼流槽设置为轴心相同的环形扼流槽并且使第二扼流槽的深度深于第一扼流槽的深度,在两个环形槽之间形成了阶梯高度差,使得FP谐振腔天线天线能够工作在较宽的工作频带,且大大抑制了周围环境对FP谐振腔天线的多路径干扰信号,提高了接收天线的抗多路径干扰能力。此外,由于在天线的微波传输时,会产生一些在主瓣的两侧对称分布的能量较小的波瓣,这些波瓣称为旁瓣,旁瓣会浪费能量、产生旁瓣假回波,为了抑制旁瓣的产生,在反射底板上设置有两个圆环形的扼流槽,可以更好地在各个方向抑制旁瓣的产生。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川睿迪澳科技有限公司,未经四川睿迪澳科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201822268207.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top