[实用新型]无张力磁控溅射镀膜室及织物镀膜装置

权利要求书

1.一种无张力磁控溅射镀膜室，其特征在于，包括真空腔体，所述真空腔体相对的两侧壁上分别设有织物入口和织物出口；所述真空腔体中设有镀膜辊和水平隔板；

所述水平隔板的一端与所述真空腔体的内壁固定连接，另一端与所述镀膜辊之间形成有供织物通过的间隙；所述水平隔板将所述真空腔体分成上方的传送室和下方的溅射室；

所述传送室中设有多个第一导辊；所述溅射室中设有多个溅射源，多个所述溅射源沿所述镀膜辊周向设置，相邻的溅射源之间设有一组第二导辊；所述第二导辊与所述镀膜辊之间具有供织物通过的间隙；每组所述第二导辊中，相邻的第二导辊之间具有供织物通过的间隙；

所述镀膜辊、第一导辊和第二导辊均与驱动设备相连；所述驱动设备驱动所述镀膜辊、所述第一导辊和所述第二导辊转动，以将所述织物由所述织物入口运送至所述织物出口。

2.根据权利要求1所述的无张力磁控溅射镀膜室，其特征在于，每组所述第二导辊的数量为奇数个，且相邻的第二导辊的转动方向相反。

3.根据权利要求1所述的无张力磁控溅射镀膜室，其特征在于，所述第二导辊的表面上设有防滑纹。

4.根据权利要求1所述的无张力磁控溅射镀膜室，其特征在于，每组所述第二导辊中，相邻的第二导辊之间的距离不超过5mm；和/或，所述第二导辊与所述镀膜辊之间的距离不超过5mm。

5.根据权利要求1-4任一项所述的无张力磁控溅射镀膜室，其特征在于，所述第一导辊均为主动辊；和/或，所述第二导辊均为主动辊。

6.根据权利要求5所述的无张力磁控溅射镀膜室，其特征在于，所述镀膜辊、所述第一导辊和所述第二导辊转动的线速度均相同。

7.根据权利要求1-4任一项所述的无张力磁控溅射镀膜室，其特征在于，所述溅射源的两侧设有隔气板，所述隔气板与所述镀膜辊之间具有供所述织物通过的间隙。

8.根据权利要求1-4任一项所述的无张力磁控溅射镀膜室，其特征在于，所述水平隔板和与其相邻的溅射源之间设置有一组所述第二导辊。

9.根据权利要求1-4任一项所述的无张力磁控溅射镀膜室，其特征在于，还包括冷却系统，所述冷却系统与所述镀膜辊连接，所述冷却系统与所述溅射源连接。

10.一种织物镀膜装置，其特征在于，包括依次相连的放卷室、前过渡室、权利要求1-9任一项所述的无张力磁控溅射镀膜室、后过渡室和收卷室；

所述放卷室、所述前过渡室、所述后过渡室和所述收卷室内均设置有多个第三导辊，使织物能够从所述放卷室运送至所述收卷室。